HK-8100元素定量ICP單道掃描光譜儀(ICP-AES/OES),主要用于微量/痕量元素的分析,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅,磷等少量的非金屬,共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測(cè),可對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。參數(shù)規(guī)格1、波長(zhǎng)范圍:190~500nm(3600L/mm光柵)或190~800nm(2400L/mm光柵);
2、分辨率: 0.006nm(3600L/mm光柵)或0.01nm(2400L/mm光柵);
3、波長(zhǎng)示值誤差和重復(fù)性:波長(zhǎng)示值誤差≤0.02nm,重復(fù)性≤0.003nm;
4、掃描步距:0.0004nm;
5、重復(fù)性:RSD≤1.0%;
6、穩(wěn)定性:RSD≤1.5%;
7、檢出限:ppb級(jí);
8、分析元素范圍:70余種金屬與非金屬元素;
9、線性范圍:7個(gè)數(shù)量級(jí)以上,且自吸效應(yīng)極低;
10、分析速度:每分鐘掃描最快達(dá)25個(gè)元素以上;
11、等級(jí)證書(shū):國(guó)家計(jì)量器具型式許可A級(jí)(且遠(yuǎn)優(yōu)于A級(jí))。
12、必須有生產(chǎn)許可證:且規(guī)格要求滿足,測(cè)量范圍:190-500nm
13 規(guī)格大小:長(zhǎng)寬高:1.5mX0.60mX1.2m 立式儀器方便推挪,免裝試驗(yàn)臺(tái)*
14 配智能冷卻循環(huán)水箱(YT-1800)
15 配電腦聯(lián)想
16 配惠普激光打印機(jī)
性能特點(diǎn)射頻發(fā)生器(RF)
(1)電路類型:電感反饋?zhàn)约な秸袷庪娐贰⑼S電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號(hào),進(jìn)行閉環(huán)自動(dòng)控制;
(2)工作頻率:40.68MHz±0.05%;
(3)頻率穩(wěn)定性:≤0.05%;
(4)輸出功率:800~1200W;
分光器
(1)光路:Czerny-Turner;
(2)焦距:1000mm;
(3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵;
(4)分光器恒溫裝置:26℃±1℃。
測(cè)光裝置
(1)光電倍增管規(guī)格:R212UH或R928;
(2)測(cè)光方式:?jiǎn)、多元素順序測(cè)量。
操作軟件:
(1)操作系統(tǒng):Windows XP 操作平臺(tái);
(2)測(cè)定波長(zhǎng)數(shù):任意選擇;
(3)分析速度:每分鐘最快25個(gè)元素以上;
(4)數(shù)據(jù)庫(kù):譜線庫(kù)11萬(wàn)條以上;
(5)多窗口:在測(cè)量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時(shí)、測(cè)量下一樣品;
(6)標(biāo)準(zhǔn)加入法:軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法,以便在不同條件和應(yīng)用中下使用;
(7)分析模式:軟件默認(rèn)最佳分析模式,擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測(cè)量方式和幾種積分模式,單位任選等多種功能;
(8)歷史數(shù)據(jù)庫(kù):在歷史數(shù)據(jù)庫(kù)中,可以同時(shí)可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果;
(9)數(shù)據(jù)輸出:軟件支持激光打印機(jī)打印分析結(jié)果。
(10)語(yǔ)言:可中英文雙語(yǔ)
(11)有公司自己LOGO