型號(hào) | 秤量 | 規(guī)格 | 外部精度 |
SB721-30 | 30kg | e= 10g / d= 2g | 1/15 000 |
SB721-75 | 75kg | e= 50g / d= 5g | 1/15 000 |
SB721-150 | 150kg | e= 50g / d=10g | 1/15 000 |
SB721-300 | 300kg | e=100g / d=20g | 1/15 000 |
適用溫度:0°C~40°C (32°F~104°F) | |||
電源:AC 220V( -15%, +10%) + 6V/4Ah 蓄電池 | |||
秤盤(pán)尺寸:400 x 500mm; 420 x 520mm; 450 x 550mm; 600 x 800mm |
技術(shù)參數(shù)
1.電子束源&電源 •單個(gè)或者可自由切換換電子束源: --蒸發(fā)室數(shù)量 1 ~ 12(標(biāo)配: 4, 6) --坩堝容量:7 ~ 40 cc (最大可達(dá)200 cc) ----標(biāo)準(zhǔn):25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket) ----最大:200 cc (156cc for UHV) 可用于長(zhǎng)時(shí)間的沉積 •偏轉(zhuǎn)角度:180º, 270º •輸出功率:6, 10, 15, 20 kW •支持兩個(gè)或者三個(gè)電子束源在一個(gè)系統(tǒng)上 •可連續(xù)或者同時(shí)沉積兩種或三種材料 •高速率沉積 2.薄膜沉積控制: •IC-5 ( or XTC, XTM) 和計(jì)算機(jī)控制 --沉積過(guò)程參數(shù)可控 --石英晶體振蕩傳感器 --光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)用于光學(xué)多層薄膜沉積:測(cè)量波長(zhǎng)范圍350-2000 nm,分辨率1 nm •薄膜厚度檢測(cè)和處理過(guò)程可通過(guò)計(jì)算機(jī)程序控制 •薄膜厚度檢測(cè)和沉積速率可通過(guò)計(jì)算機(jī)程序控制 --支持大面積沉積 --支持在線電子束蒸發(fā)沉積 --基底尺寸:20~100英寸 --薄膜均勻性 <±1.0 to 5.0 % 3.真空腔體: •圓柱形腔體 --直徑:φ500 ~ 1,500 mm --高度:800 ~ 1500 mm •方形腔體 --根據(jù)客戶的需求定制 4.真空泵和測(cè)量裝置: •低真空:干泵和convectron真空規(guī) •高真空:渦輪分子泵,低溫泵和離子規(guī) •超高真空:雙級(jí)渦輪分子泵,離子泵和離子規(guī) 5.控制系統(tǒng)PLC和 觸摸屏計(jì)算機(jī): •硬件: PLC, 觸摸屏計(jì)算機(jī) --包括模擬和數(shù)字輸入/輸出卡 --顯示器: LCD •自動(dòng)和手動(dòng)程序控制 --程序控制:加載,編輯和保存 --程序激活控制: ----泵抽真空,蒸發(fā)沉積,加熱, 旋轉(zhuǎn)等 ----膜厚度檢測(cè)和控制多層薄膜沉積 ----系統(tǒng)狀態(tài),數(shù)據(jù)加載等 ----問(wèn)題解答和聯(lián)動(dòng)狀態(tài)
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主要特點(diǎn)
擴(kuò)展功能: •質(zhì)量流量控制器:反應(yīng)和等離子體輔助惰性氣體控制 •離子源和控制器:等離子體輔助沉積 •射頻電源:基底預(yù)先處理 •溫度控制器:基底加熱 •熱蒸發(fā)器:1 or 2 boat •蒸鍍?cè)碿ell:1 or 2 for doping •冷卻器:系統(tǒng)冷卻
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全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備制造商,為各個(gè)領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案:電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、離子泵等; 電子束蒸發(fā)系統(tǒng): 1.膜電子束蒸發(fā)系統(tǒng)E -Beam Evaporation System 2.高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)High Vacuum E -Beam Evaporation System 3.超高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System 4.離子輔助蒸發(fā)系統(tǒng)Ion Beam Assisted Evaporation System 5.離子電鍍系統(tǒng)Ion Plating System 6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System 7.在線電子束蒸發(fā)系統(tǒng)In-line E -Beam Evaporation System |
以下是由上海內(nèi)赫赤提供的格威萊德G4400的技術(shù)參數(shù),僅供參考:
瑞士SYLVAC S229系列 905.1201 905.1301 905.1401 905.1501 905.5301 905.1303 905.5303 905.5501 905.1601 905.1621 905.1641 905.1661 905.1671 905.1681杠桿表詳細(xì)介紹:
瑞士SYLVAC S229千分表的詳細(xì)介紹特點(diǎn):◆ RS232接口輸出 ◆270°旋轉(zhuǎn)數(shù)顯表◆ 鋰電池◆ 長(zhǎng) 8.5mm大數(shù)顯◆ M2.5可互換式測(cè)頭◆ 多種附件可選功能:◆ 公/英制轉(zhuǎn)換◆ 預(yù)置◆ 置零◆ 存儲(chǔ)鎖定◆ 設(shè)定兩個(gè)基準(zhǔn)◆ 測(cè)量方向可選 數(shù)據(jù)輸出:Opto-RS232或Opto-USB
電池壽命:4000小時(shí)
測(cè)量范圍:從12.5mm到150mm
操作簡(jiǎn)單
型號(hào) | 905.1201 | 905.1205 | 905.1301 | 905.1303 | 905.1305 | 905.5301 | 905.5303 | |
測(cè)量范圍 mm | 12.5 | 12.5 | 12.5 | 12.5 | 12.5 | 12.5 | 12.5 | |
系列 | S229 | S229 | S229 | S229 | S229 | S213 | S213 | |
延長(zhǎng) | S | P | S | S | P | S | S | |
最小讀數(shù) | mm | 0.01 | 0.01 | 0.001 | 0.001 | 0.001 | 0.001 | 0.001 |
最小誤差 µm | 101) | 101) | 5 | 3 | 5 | 5 | 3 | |
重復(fù)精度 | µm | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 |
905.1401 | 905.1405 | 905.1501 | 905.1505 | 905.5501 | 905.5505 | 905.5302 | ||
測(cè)量范圍 mm | 25 | 25 | 25 | 25 | 25 | 25 | 12.5 | |
系列 | S229 | S229 | S229 | S229 | S213 | S213 | Int / Ext | |
延長(zhǎng) | S | P | S | P | S | P | S | |
最小讀數(shù) | mm | 0.01 | 0.01 | 0.001 | 0.001 | 0.001 | 0.001 | 0.001 |
最小誤差 µm | 101) | 101) | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | |
重復(fù)精度 | µm | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 |
905.1601 | 905.1621 | 905.1641 | 905.1661 | 905.1671 | 905.1681 | 905.5305 | ||
測(cè)量范圍 mm | 50 | 50 | 100 | 100 | 150 | 150 | 12.5 | |
系列 | S229 | S229 | S229 | S229 | S229 | S229 | S213 | |
延長(zhǎng) | S | S | S | S | S | S | P | |
最小讀數(shù) | mm | 0.01 | 0.001 | 0.01 | 0.001 | 0.01 | 0.001 | 0.001 |
最小誤差 µm | 201) | 7 | 201) | 8 | 201) | 9 | 5 | |
重復(fù)精度 | µm | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 |
10~60000放大倍率、適合各類樣品分析
較光學(xué)顯微鏡有更好的景深
光學(xué)顯微鏡景深不足在500 倍時(shí)僅有局部區(qū)遇有清析的影像視野。 | 同樣500倍放大倍率下JCM-6000有較優(yōu)越的分辨率與景深,全視野都非常清晰。 |
JCM6000擁有良好景深,方便樣品觀察與分析 |
可直接進(jìn)行2D量測(cè)、包括長(zhǎng)度與角度
可觀查成份像(左:PCB成份影像 右:電子零件立體影像)
全新的觸摸屏GUI界面操作更加形象直觀,不僅操作界面簡(jiǎn)明易懂,觸摸式操作更加直觀方便。
雙畫(huà)面顯示可以并列顯示實(shí)時(shí)圖像和儲(chǔ)存圖像。 能一邊比較圖像一邊進(jìn)行觀察。
JCM-6000 規(guī)格
放大倍數(shù) | ×10 ∼ ×60,000 (二次電子) ×10 ∼ ×30,000 (背散射電子) |
---|---|
觀察模式 | 高真空模式 / 低真空模式 |
電子槍 | 燈絲與韋氏帽集成一體的小型電子槍 ( filament and Wehnelt integrated grid) |
加速電圧 | 15kV / 10kV / 5kV 3檔切換 (二次電子) 15kV / 10kV 2檔切換 (背散射電子) |
樣品臺(tái) | X-Y軸手動(dòng)控制 X方向 35mm、Y方向 35mm |
最大樣品尺寸 | 直徑70mm、高度50mm |
工作距離 (WD) | 7~53mm |
信號(hào)檢測(cè) | 高真空(二次電子、背散射電子)、低真空(背散射電子) |
數(shù)據(jù)顯示/ 顯示內(nèi)容 | 加速電圧、倍率、微米條、微米值等 |
文件格式 | BMP、TIFF、JPEG |
圖像內(nèi)存像素 | 640x480像素、1280x960像素 |
拍攝條件 | 高速、低速1、低速2 |
旋轉(zhuǎn)功能 | 掃描旋轉(zhuǎn)(90°/步、1°/步可選) |
圖像電位移 | 電位移功能 |
圖像保存 | 拍攝(掃描)結(jié)束后,能自動(dòng)編號(hào)、自動(dòng)保存文件。 |
操作系統(tǒng) OS | Windows 7 |
自動(dòng)功能 | 自動(dòng)聚焦、自動(dòng)消像散 自動(dòng)襯度/亮度、 自動(dòng)電子槍對(duì)中 |
配置 | 主機(jī)、電源箱、PC、LCD、機(jī)械泵 |
操作 | 觸摸屏、鼠標(biāo) |
選配件 | 馬達(dá)驅(qū)動(dòng)傾斜/旋轉(zhuǎn)樣品架、能譜儀(EDS) |
主機(jī) | 330(W)×490(D)×430mm(H) |
輸入電源 | 單相AC100V(700VA)、120V(840VA)、220V(880VA)、240V(960VA) 波動(dòng)±10%以內(nèi)、接地 |
室溫 | 15℃~30℃ |
濕度 | 60%以下 |
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樣品圖片 |
主要技術(shù)參數(shù) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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