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EP3nanofilm呈像橢偏儀

[EP3] 德國nanofilm公司于1991年開發(fā)出了世界上臺Brewster角顯微鏡(BAM)，該儀器主要用于薄層膜的觀察。近幾年來，nanofilm又相繼推出了不同用途的BAM產(chǎn)品以及相應(yīng)的配套儀器，其款的EP3橢圓偏振成相系統(tǒng)把橢圓偏振法與顯微鏡法相結(jié)合，為其進(jìn)入到生物分析和微電子等新的研究領(lǐng)域提供了可能。應(yīng)用領(lǐng)域：橢圓光度法是一種非破壞性和無需標(biāo)記的、用于確定膜厚和材料光學(xué)特性的方法。通過把橢圓光度法與顯微鏡法相結(jié)合，影像橢圓光度儀不斷改進(jìn)，平面精度已經(jīng)能夠達(dá)到1μm，立體精度已提高到1nm，為其進(jìn)入到生物分析和微電子等新的研究區(qū)域提供了可能。EP3是德國nanofilm公司最近推出的新一代橢圓光度儀產(chǎn)品。主要應(yīng)用于以下各種尖端領(lǐng)域：生物芯片：同次性、膜厚、雜交、動(dòng)力學(xué)等測量 LB/單層/自組合單層膜/活性劑：檢測LB膜的結(jié)構(gòu)、單層膜厚度、界面吸附等接觸印刷：小于1μm微結(jié)構(gòu)的質(zhì)量控制、膜厚測量、測量折射率和吸附磁盤：同次性、膜硬度 (油)膜厚度、光學(xué)產(chǎn)品磁光學(xué)結(jié)果的觀察納米粒子：納米粒子上的一小塊區(qū)域、折射率和吸附的分布聚合物：膜厚、折射率和吸附測量主要特點(diǎn) 采用高精度回零橢圓光度法的空間分辨率(1μm), 大面積圖像橢圓光度法（多達(dá)若干cm2）單一或多重的激光波長新穎的自動(dòng)測角計(jì)，用于入射角調(diào)整n EP3View專用軟件，用于儀器控制和基于Windows?的數(shù)據(jù)分析多重關(guān)注區(qū)域及Δ，Ψ繪圖n 可通過局部網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制和服務(wù) 技術(shù)參數(shù) 原理 PCSA 配置的自動(dòng)回零（ Auto-Nulling ）圖像橢圓光度法橢圓光度分辨率 Delta/Psi 精度 0.001 deg 　　絕對精度 0.01 deg （依賴于樣品與測量條件）立體分辨率 1~35μm （平面解析精度： 1μm ，縱向解析精度： 1 nm ）激光器波長標(biāo)準(zhǔn)為 : 532 nm 　可選 405, 488, 514, 543, 594, 633, 650, 690, 785, 830, 905, nm 靈敏度 0.05~0.2nm 解析時(shí)間快， 22×73mm 在 1.2μm 精度下只需不到一分鐘的時(shí)間圖像系統(tǒng) 768 x 572 像素 CCD 照相機(jī) 電子組件內(nèi)置基于 Pentium 芯片的控制器，帶 Matrox Meteor II 抓圖器；內(nèi)置 Linux 操作系統(tǒng)；通過專用 100M 以太網(wǎng)與主機(jī)相連電源電壓： 100 – 240 VAC, 50/60Hz 最大電流 : 10 A

EP3nanofilm呈像橢偏儀

[EP3] 德國nanofilm公司于1991年開發(fā)出了世界上臺Brewster角顯微鏡(BAM)，該儀器主要用于薄層膜的觀察。近幾年來，nanofilm又相繼推出了不同用途的BAM產(chǎn)品以及相應(yīng)的配套儀器，其款的EP3橢圓偏振成相系統(tǒng)把橢圓偏振法與顯微鏡法相結(jié)合，為其進(jìn)入到生物分析和微電子等新的研究領(lǐng)域提供了可能。應(yīng)用領(lǐng)域：橢圓光度法是一種非破壞性和無需標(biāo)記的、用于確定膜厚和材料光學(xué)特性的方法。通過把橢圓光度法與顯微鏡法相結(jié)合，影像橢圓光度儀不斷改進(jìn)，平面精度已經(jīng)能夠達(dá)到1μm，立體精度已提高到1nm，為其進(jìn)入到生物分析和微電子等新的研究區(qū)域提供了可能。EP3是德國nanofilm公司最近推出的新一代橢圓光度儀產(chǎn)品。主要應(yīng)用于以下各種尖端領(lǐng)域：生物芯片：同次性、膜厚、雜交、動(dòng)力學(xué)等測量 LB/單層/自組合單層膜/活性劑：檢測LB膜的結(jié)構(gòu)、單層膜厚度、界面吸附等接觸印刷：小于1μm微結(jié)構(gòu)的質(zhì)量控制、膜厚測量、測量折射率和吸附磁盤：同次性、膜硬度 (油)膜厚度、光學(xué)產(chǎn)品磁光學(xué)結(jié)果的觀察納米粒子：納米粒子上的一小塊區(qū)域、折射率和吸附的分布聚合物：膜厚、折射率和吸附測量主要特點(diǎn) 采用高精度回零橢圓光度法的空間分辨率(1μm), 大面積圖像橢圓光度法（多達(dá)若干cm2）單一或多重的激光波長新穎的自動(dòng)測角計(jì)，用于入射角調(diào)整n EP3View專用軟件，用于儀器控制和基于Windows?的數(shù)據(jù)分析多重關(guān)注區(qū)域及Δ，Ψ繪圖n 可通過局部網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制和服務(wù) 技術(shù)參數(shù) 原理 PCSA 配置的自動(dòng)回零（ Auto-Nulling ）圖像橢圓光度法橢圓光度分辨率 Delta/Psi 精度 0.001 deg 　　絕對精度 0.01 deg （依賴于樣品與測量條件）立體分辨率 1~35μm （平面解析精度： 1μm ，縱向解析精度： 1 nm ）激光器波長標(biāo)準(zhǔn)為 : 532 nm 　可選 405, 488, 514, 543, 594, 633, 650, 690, 785, 830, 905, nm 靈敏度 0.05~0.2nm 解析時(shí)間快， 22×73mm 在 1.2μm 精度下只需不到一分鐘的時(shí)間圖像系統(tǒng) 768 x 572 像素 CCD 照相機(jī) 電子組件內(nèi)置基于 Pentium 芯片的控制器，帶 Matrox Meteor II 抓圖器；內(nèi)置 Linux 操作系統(tǒng)；通過專用 100M 以太網(wǎng)與主機(jī)相連電源電壓： 100 – 240 VAC, 50/60Hz 最大電流 : 10 A

光譜型橢偏儀

薄膜厚度范圍：1納米 – 8 微米；厚度分辨率為0.1納米；測量速度： 5 – 15秒；重現(xiàn)性： cos(Delta) ±0.0003, tan(Psi) ± 0.0002 (Si上70納米SiO2)；光譜范圍： 450納米 – 900納米(其他波長范圍可以選配)；角度： 70° (其他角度可以選配)；Mapping功能： 6”/12” 選配，度±10微米，光學(xué)編碼全自動(dòng)控制；光學(xué)顯微鏡：不同放大倍數(shù)選配；軟件：一鍵厚度測量，易于使用，多等級用戶管理，多種數(shù)學(xué)模型構(gòu)建；

關(guān)于橢圓偏光法橢圓偏光法是基于測量偏振光經(jīng)過樣品反射后振幅和相位的改變研究材料的性質(zhì)。光譜型橢偏儀在全部光譜范圍內(nèi)(而不是特定的波長)測量Psi和Delta，通過構(gòu)建物理模型對數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合分析，最終得到膜厚、折光系數(shù)、吸收、粗糙度、組成比率等結(jié)果。

橢偏儀0820

　　在光譜橢偏儀的測量中使用不同的硬件配置，但每種配置都必須能產(chǎn)生已知偏振態(tài)的光束。測量由被測樣品反射后光的偏振態(tài)。這要求儀器能夠量化偏振態(tài)的變化量ρ。

　　有些儀器測量ρ是通過旋轉(zhuǎn)確定初始偏振光狀態(tài)的偏振片（稱為起偏器）。再利用第二個(gè)固定位置的偏振片（稱為檢偏器）來測得輸出光束的偏振態(tài)。另外一些儀器是固定起偏器和檢偏器，而在中間部分調(diào)制偏振光的狀態(tài)，如利用聲光晶體等，最終得到輸出光束的偏振態(tài)。這些不同的配置的最終結(jié)果都是測量作為波長和入射角復(fù)函數(shù)ρ。

　　在選則合適的橢偏儀的時(shí)候，光譜范圍和測量速度也是一個(gè)通常需要考慮的重要因素�？蛇x的光譜范圍從深紫外的142nm到紅外的33µm。光譜范圍的選擇通常由應(yīng)用決定。不同的光譜范圍能夠提供關(guān)于材料的不同信息，合適的儀器必須和所要測量的光譜范圍匹配。

　　測量速度通常由所選擇的分光儀器（用來分開波長）來決定。單色儀用來選擇單一的、窄帶的波長，通過移動(dòng)單色儀內(nèi)的光學(xué)設(shè)備（一般由計(jì)算機(jī)控制），單色儀可以選擇感興趣的波長。這種方式波長比較準(zhǔn)確，但速度比較慢，因?yàn)槊看沃荒軠y試一個(gè)波長。如果單色儀放置在樣品前，有一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是明顯減少了到達(dá)樣品的入射光的量（避免了感光材料的改變）。另外一種測量的方式是同時(shí)測量整個(gè)光譜范圍，將復(fù)合光束的波長展開，利用探測器陣列來檢測各個(gè)不同的波長信號。在需要快速測量的時(shí)候，通常是用這種方式。傅立葉變換分光計(jì)也能同時(shí)測量整個(gè)光譜，但通常只需一個(gè)探測器，而不用陣列，這種方法在紅外光譜范圍應(yīng)用最為廣泛。

文章來源：http://www.jy1898.net/

該公司產(chǎn)品分類：水電費(fèi)

SpecEl橢偏儀SpecEl橢偏儀

SpecEl-2000-VIS橢偏儀通過測量基底反射的偏振光，進(jìn)而測量薄膜厚度及材料不同波長處的折射率。SpecEl通過PC控制來實(shí)現(xiàn)折射率，吸光率及膜厚的測量。

集成的精確測量系統(tǒng)

SpecEl由一個(gè)集成的光源，一個(gè)光譜儀及兩個(gè)成70°的偏光器構(gòu)成，并配有一個(gè)32位操作系統(tǒng)的PC.該橢偏儀可測量0.1nm-5um厚的單膜，并且折射率測量可達(dá)0.005%。

SpecEl可通過電話問價(jià)。

SpecEl軟件及Recipe配置文件

通過SpecEI軟件，你可以配置及存貯實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)方法實(shí)現(xiàn)一鍵分析，所有的配置會被存入recipe文件中。創(chuàng)建recipe后，你可以選擇不同的recipe來執(zhí)行你的實(shí)驗(yàn)。

SpecEI軟件截圖顯示的Psi及Delta值可以用來計(jì)算厚度，折射率及吸光率。

配置說明

波長范圍:	380-780 nm （標(biāo)準(zhǔn)）或450-900 nm （可選）
光學(xué)分辨率:	4.0 nm FWHM
測量精度:	厚度0.1 nm ; 折射率 0.005%
入射角:	70°
膜厚:	單透明膜1-5000 nm
光點(diǎn)尺寸:	2 mm x 4 mm （標(biāo)準(zhǔn)）或 200 µm x 400 µm （可選）
采樣時(shí)間:	3-15s （最小）
動(dòng)態(tài)記錄:	3 seconds
機(jī)械公差（height）:	+/- 1.5 mm, 角度 +/- 1.0°
膜層數(shù):	至多32層
參考:	不用

EMProEMPro 極致型多入射角激光橢偏儀

EMPro是針對高端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的極致型多入射角激光橢偏儀。

EMPro可在單入射角度或多入射角度下進(jìn)行高精度、高準(zhǔn)確性測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時(shí)測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實(shí)時(shí)測量快速變化的納米薄膜動(dòng)態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的絕對厚度測量。

EMPro采用了量拓科技多項(xiàng)專利技術(shù)。

特點(diǎn)：

原子層量級的極高靈敏度

國際先進(jìn)的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級的極薄納米薄膜，膜厚精度達(dá)到0.01nm，折射率精度達(dá)到0.0001。
百毫秒量級的快速測量

國際水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證極高精度和準(zhǔn)確度的同時(shí)，可在幾百毫秒內(nèi)快速完成一次測量，可滿足單原子膜層生長的實(shí)時(shí)測量。
簡單方便的儀器操作

用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進(jìn)行高級測量設(shè)置。

應(yīng)用：

EMPro適合于高精度要求的科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
EMPro可用于測量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時(shí)測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實(shí)時(shí)測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
EMPro可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等�？蓱�(yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。

技術(shù)指標(biāo)：

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
儀器型號	EMPro31
激光波長	632.8nm （He-Ne Laser）
膜厚測量重復(fù)性^（1）	0.01nm （對于平面Si基底上100nm的SiO₂膜層）
折射率測量重復(fù)性^（1）	1x10^-4（對于Si基底上100nm的SiO₂膜層）
單次測量時(shí)間	與測量設(shè)置相關(guān)，典型0.6s
結(jié)構(gòu)	PSCA（Δ在0°或180°附近時(shí)也具有極高的準(zhǔn)確度）
激光光束直徑	1mm
入射角度	40°-90°可手動(dòng)調(diào)節(jié)，步進(jìn)5°
樣品方位調(diào)整	Z軸高度調(diào)節(jié)：±6.5mm 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° 樣品對準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對準(zhǔn)系統(tǒng)
樣品臺尺寸	平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm
最大的膜層范圍	透明薄膜可達(dá)4000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)
最大外形尺寸	887 x 332 x 552mm （入射角為90º時(shí)）
儀器重量（凈重）	25Kg
選配件	水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺真空吸附泵
軟件	ETEM軟件： l 中英文界面可選； l 多個(gè)預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用； l 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合； l 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 l 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持

注：（1）測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。

性能保證：

高穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、先進(jìn)的采樣方法以及低噪聲探測技術(shù)，保證了高穩(wěn)定性和高準(zhǔn)確度
高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng)，保證了快速、高精度的樣品方位對準(zhǔn)
穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對準(zhǔn)，結(jié)合先進(jìn)的采樣技術(shù)，保證了快速、穩(wěn)定測量
分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和絕對厚度的測量
一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使得系統(tǒng)操作簡單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間
一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫，方便用戶使用

準(zhǔn)確度測試：

在入射角40°~85°范圍內(nèi)對Si基底上SiO2薄膜樣品橢偏角Psi和Delta測量值和理論擬合值如下圖所示：

可選配件：

NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
樣品池

該公司產(chǎn)品分類：在線橢偏儀激光橢偏儀光譜橢偏儀