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PT-10S10L小型真空等離子清洗機(jī)電源可選裝等離子清洗器原理頻率13.56MHz等離子清洗設(shè)備

PT-10S真空等離子清洗機(jī)

是利用氣體高壓放電，然后把氣體分解成等離子體；我們?nèi)粘Ｉ钪谐Ｒ?jiàn)的

有液體，固體和氣體，氣體再升華就形成了等離子體，也就是物質(zhì)的第四種形態(tài)，我們也稱為輝

光，所以真空等離子清洗機(jī)也叫輝光等離子清洗機(jī)。

等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)：

1.等離子清洗機(jī)不需要?dú)鈶B(tài)材料進(jìn)行輔助，減少清潔成本。

2.跟自動(dòng)化設(shè)備進(jìn)行配套使用，可以提高清洗產(chǎn)能。

3.等離子清洗機(jī)是利用輝光進(jìn)行清洗機(jī)，可以說(shuō)是全方位的，不用擔(dān)心材料表面凹凸不平，而達(dá)

不到清潔效果。

4.可以同時(shí)處理金屬，塑料，半導(dǎo)體，氧化物，或者是高分子材料都可以處理。

5.由于等離子主要是分解掉有機(jī)污染物，所以不用擔(dān)心污染或危害健康。

6.清潔過(guò)后不用打掃工作場(chǎng)所，保持生產(chǎn)環(huán)境的潔凈。

7.在清洗過(guò)程當(dāng)中可以改善材料表面的活性，親水性，提高材料表面的達(dá)因值

YZD08-10C真空等離子清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)參數(shù)：

型號(hào)：YZD08-10C

*供電電源： AC220V

*工作電流：整機(jī)工作電流不大于1.2A(不含真空泵)

*射頻電源功率： 200-500W

*射頻頻率： 40KHZ（偏移量小于0.2KHz）

*頻率偏移量：小于0.2KHz

*特性阻抗： 50歐姆，自動(dòng)匹配

*真空度： 30Pa—100Pa

*氣體流量： 10—100ml/min(可調(diào))

*過(guò)程控制： MCU自動(dòng)與手動(dòng)方式

清洗時(shí)間： 1-6000秒鐘可調(diào)

功率大小 10%-100%可調(diào)

內(nèi)腔尺寸 200mm×200mm×260mm

*外形尺寸： PT-10S型_650*520*500

*重量： 45Kg

*真空泵： 2XZ-6

*真空室溫度：小于65°C

*冷卻方式：強(qiáng)制風(fēng)冷

深圳三和波達(dá)機(jī)電科技有限公司

-專攻研究院大學(xué)工廠等離子清洗裝置

地址：深圳龍華大浪石觀工業(yè)區(qū)鴻德工業(yè)園C棟3樓

電話：聞先生 13510901650

座機(jī)：

傳真：

QQ:2850868930 郵箱2850868930@qq.com

該公司產(chǎn)品分類(lèi)：等離子清洗機(jī)

GV10x電鏡等離子清洗器，透射電鏡，掃描電鏡（TEM/STM）專用等離子清洗機(jī)

GV10x電鏡等離子清洗器

GV10x 是由ibss Group和一個(gè)擁有專利的等離子源的發(fā)明者共同合作開(kāi)發(fā)并生產(chǎn)的新一代專門(mén)清洗腔體的等離子清洗系統(tǒng)。GV10x可以在分子泵工作的真空壓力狀態(tài)下運(yùn)行，它比以往傳統(tǒng)方法更加有效的（10到20倍）去除碳和碳?xì)湮廴尽Ｋ軌蛉コ龗呙桦娮语@微鏡(SEM)圖像中的假象; 使電子顯微鏡長(zhǎng)久的保持高分辨率和束流穩(wěn)定性。不但能夠消除掃描電子顯微鏡圖像中的黑色掃描方框，針對(duì)聚焦離子束(FIB)和透射電子顯微鏡(TEM)中的碳污染同樣能得到很好的控制效果。

GV10x (KF40 version)

GV10x等離子清洗器是應(yīng)用于真空腔體中的原位清洗機(jī)的一個(gè)全新典范。憑借精妙的順流工藝，GV10x等離子清洗器比第一代方法更加有效和均勻10到20倍地去除碳和碳?xì)湮廴�。分子泵也可以安全地運(yùn)行，而不需要中斷SEM, FIB或TEM系統(tǒng)的軟件控制。

通常GV10x等離子體清洗器使用空氣或氧氣產(chǎn)生氧的自由基來(lái)去除碳?xì)湮廴尽４送猓?/span>NIST （美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究所）研究表明，在GV10x等離子體清洗器中運(yùn)用氫氣去除沉積在多層鏡面和其它襯底以及氧化敏感的樣品上的碳沉積方面是安全和有效的。

GV10x等離子體清洗器可以很容易地在幾個(gè)不同的實(shí)驗(yàn)室儀器中搬遷。每個(gè)腔的清潔周期不同。與普通的等離子清洗機(jī)不同的是: 等離子體清洗工藝(經(jīng)常被稱為遠(yuǎn)程等離子處理)并不會(huì)產(chǎn)生動(dòng)力沖擊、濺射損傷或者對(duì)樣品加熱。

GV10x等離子體清洗器能迅速地清潔掃描電子顯微鏡腔內(nèi)的樣品，允許快速的假象清除，通常僅需幾分鐘的時(shí)間，而不需給電鏡腔體放氣。

ibss Group的Gentle Asher和GV10x及泵的組合拓展了等離子體清洗技術(shù)的應(yīng)用，即將樣品和TEM樣品支撐桿在插入到電鏡前進(jìn)行預(yù)清洗，從而延長(zhǎng)了電鏡清洗的周期。

GV10x等離子體清洗器是一個(gè)全新的清潔腔體的典型技術(shù)。這個(gè)工藝具有更大的清潔均勻性，可以更加迅速地清除位于真空腔遠(yuǎn)角落表面上的碳污染。這些污染能不斷的吸附和重新污染腔體其它部分。由于較大的功率和壓力選擇范圍，GV10x等離子體清洗器可以被運(yùn)用到除了SEM腔體之外的清洗，比如清洗同步輻射和紫外光學(xué)，臨界尺寸掃描電鏡 (CDSEMs)，檢測(cè)性掃描電鏡和X-射線光電子能譜系統(tǒng)，這些系統(tǒng)的大型腔體都需要均勻和快速的清潔。

GV10x等離子清洗器參數(shù)：

功率： 5 ~99 W 連續(xù)可調(diào)等離子功率

壓力： - 2 Torr ~ <5 mTorr (measured at the Source)

壓力（大于50 毫托），清洗氣體的平均自由程很短，在靠近等離子源的區(qū)域去除污染。
壓力（小于50 毫托），清洗氣體的平均自由程比較長(zhǎng)，能均勻的碳污染的清除。同時(shí)，清洗發(fā)生在分子泵能安全運(yùn)行的壓力下。

柔和：使用中性氧或氫的自由基通過(guò)非動(dòng)力學(xué)過(guò)程，灰化氣相的碳?xì)浠衔锖捅砻嫣肌?/span>

Gentle Asher™, GA/GV

ibss group引進(jìn)電鏡樣品預(yù)處理腔，拓展了GV10x的應(yīng)用，用以清潔送入電子顯微鏡腔前的樣品。連接了GV10x 的預(yù)處理腔體, GA/GV, 可以極大地防止黑色掃描方框的生成。

在將電鏡腔清潔到可接受的碳?xì)湮廴舅胶�，可以使用等離子體工藝，通過(guò)簡(jiǎn)單地將GV10x源移動(dòng)到預(yù)處理腔的腔體中，達(dá)到樣品清潔和儲(chǔ)存的目的�？蛻舻膱�(bào)告聲稱這種有效的結(jié)合以更少的損傷巧妙地去除TEM樣品臺(tái)和任何類(lèi)型樣品的污染，同時(shí)保持CDSEM、 SEM、FIB 和TEM中碳?xì)湮廴舅降囊卓刂菩�。預(yù)清潔樣品和樣品臺(tái)避免了污染電鏡腔體，這樣就延長(zhǎng)了電鏡清洗的周期。

該公司產(chǎn)品分類(lèi)：玻璃碳產(chǎn)品大氣等離子清洗機(jī) 電磁系統(tǒng) 定制坩堝耗材配件納米壓痕儀（劃痕儀）臺(tái)階儀/輪廓儀表面等離子共振儀SPR 電鏡腔體等離子清洗系統(tǒng) 真空等離子表面處理系統(tǒng) TEM硅框架 TEM無(wú)膜硅窗口 TEM純硅薄膜窗口 TEM氧化硅窗口 TEM親水性/疏水性氮化硅薄膜窗口 TEM多孔氮化硅薄膜窗口 TEM氮化硅薄膜窗口 X射線用氧化硅薄膜窗口 X射線用氮化硅薄膜窗口 X射線用薄膜窗口

PDC-32G-2 等離子清洗器（Plasma Cleaner）

● 等離子清洗技術(shù)原理及應(yīng)用領(lǐng)域

等離子技術(shù)成功實(shí)現(xiàn)了干式處理，替代了傳統(tǒng)的濕法處理技術(shù)。

等離子，即物質(zhì)的第四態(tài)，是由部分電子被剝奪后的原子以及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣狀物質(zhì)。這種電離氣體是由原子，分子，原子團(tuán)，離子，電子組成。其作用在物體表面可以實(shí)現(xiàn)下列功能：

1. 實(shí)現(xiàn)物體的超潔凈清洗

2.物體表面活化、蝕刻、精整

3.等離子表面涂覆

主要應(yīng)用領(lǐng)域： 1、半導(dǎo)體元件、印刷線路板的清洗。 2、高分子材料表面修飾 3、生物芯片、微流控芯片的清洗 4、芯片、電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗 5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。 6、光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。 7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質(zhì)的清洗。 8、各種醫(yī)療器材和儀器的清洗。 9、增加復(fù)合材料、生物分子材料表面的結(jié)合力。

10. 有機(jī)材料微觀低溫灰化、煤的低溫灰化

北京燕京電子有限公司代理的Harrick Plasma等離子清洗器是專業(yè)用于表面清洗、表面處理和表面分子重組的環(huán)保型設(shè)備。它具有設(shè)計(jì)精巧、成本低廉、功能等優(yōu)點(diǎn)；廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、復(fù)合材料、塑料、聚合物和生物材料的表面處理。

主要特點(diǎn)：

1. 臺(tái)式設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊精致

2. 低、中、高三檔可調(diào)節(jié)功率

3. 設(shè)備輻射小，安全環(huán)保

4. 功能、能夠滿足客戶不同的研究需要

技術(shù)參數(shù)	基本型- PDC-32G-2 等離子清洗器
外形尺寸	8.5"H x 10"W x 8"D（215mm x 254mm x 203mm）
輸入電源	220 V／50Hz
輸入功率	100 W
重量	6.0kg
常用工作氣體	空氣、氬氣、氮?dú)饣蚧旌蠚怏w等
功率檔	低檔	680V DC、10mA DC、6.8W
	中檔	700V DC、15mA DC、10.5W
		720V DC、25mA DC、18W
基本配置	直徑3英寸（76mm），長(zhǎng)6.5英寸（165mm）的耐熱玻璃艙體可拆卸艙蓋最大為18W的RF線圈 1/8英寸NPT針閥 1/8英寸NPT三通閥

必配件：真空泵

選配件：氣體計(jì)量混合器PlasmaFloTM

石英等離子清洗艙

石英托盤(pán)（用于放置樣品）

該公司產(chǎn)品分類(lèi)：水質(zhì)分析儀/多參數(shù)水質(zhì)分析儀其它基礎(chǔ)儀表其它測(cè)量/計(jì)量?jī)x器生物顯微鏡激光拉曼光譜(RAMAN) 表面阻抗蠕動(dòng)泵電化學(xué)工作站、恒電位儀液體處理工作站(移液工作站) 在線測(cè)厚儀生物芯片、芯片掃描儀、芯片點(diǎn)樣儀、芯片檢測(cè)儀微波、電、磁學(xué)量的測(cè)量?jī)x表微流控芯片等離子體表面處理儀橢偏儀鎖相放大器其它動(dòng)物實(shí)驗(yàn)儀器白光干涉測(cè)厚儀掃描探針顯微鏡SPM（原子力顯微鏡AFM、掃描隧道顯微鏡STM）紫外、紫外分光光度計(jì)、紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)、UV

PDC-002 等離子清洗器（擴(kuò)展型） Plasma Cleaner

擴(kuò)展型：PDC-002 外形尺寸：11"H x 18"W x 9"D（279mm x 457mm x 228mm）重量： 20.0kg 輸入電源：220 V／50Hz 輸入功率：200 W 功率檔：低檔716V DC、10mA DC、7.16W 中檔720V DC、15mA DC、10.15W 740V DC、40mA DC、29.6W 常用工作氣體：空氣、氬氣、氮?dú)饣蚧旌蠚怏w等基本配置：直徑6英寸（152mm），長(zhǎng)6.5英寸（165mm）璃艙體。含磁力鎖和可視窗的鉸鏈艙蓋。最大為30W的RF線圈。 1/8英寸NPT針閥 1/8英寸NPT三通閥選配件：石英等離子清洗艙

石英托盤(pán)（用于放置樣品）氣體計(jì)量混合器PlasmaFloTM 周邊設(shè)備：擴(kuò)展型專用真空泵（PDC-VP-2）
- 主要特點(diǎn)
- 1、臺(tái)式設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊精致。 2、低、中、高三檔可調(diào)節(jié)功率，最大可為30W. 3、設(shè)備輻射小，安全環(huán)保。 4、CE安全認(rèn)證。 5、功能，能夠滿足客戶的不同研究需要。
- 主要應(yīng)用領(lǐng)域： 1、半導(dǎo)體元件、印刷線路板的清洗。 2、高分子材料表面修飾 3、生物芯片、微流控芯片的清洗 4、芯片、電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗 5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。 6、光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。 7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質(zhì)的清洗。 8、各種醫(yī)療器材和儀器的清洗。 9、增加復(fù)合材料、生物分子材料表面的結(jié)合力。

該公司產(chǎn)品分類(lèi)：水質(zhì)分析儀/多參數(shù)水質(zhì)分析儀其它基礎(chǔ)儀表其它測(cè)量/計(jì)量?jī)x器生物顯微鏡激光拉曼光譜(RAMAN) 表面阻抗蠕動(dòng)泵電化學(xué)工作站、恒電位儀液體處理工作站(移液工作站) 在線測(cè)厚儀生物芯片、芯片掃描儀、芯片點(diǎn)樣儀、芯片檢測(cè)儀微波、電、磁學(xué)量的測(cè)量?jī)x表微流控芯片等離子體表面處理儀橢偏儀鎖相放大器其它動(dòng)物實(shí)驗(yàn)儀器白光干涉測(cè)厚儀掃描探針顯微鏡SPM（原子力顯微鏡AFM、掃描隧道顯微鏡STM）紫外、紫外分光光度計(jì)、紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)、UV

PDC-32G-2 等離子清洗器（Plasma Cleaner）

● 等離子清洗技術(shù)原理及應(yīng)用領(lǐng)域

等離子技術(shù)成功實(shí)現(xiàn)了干式處理，替代了傳統(tǒng)的濕法處理技術(shù)。

等離子，即物質(zhì)的第四態(tài)，是由部分電子被剝奪后的原子以及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣狀物質(zhì)。這種電離氣體是由原子，分子，原子團(tuán)，離子，電子組成。其作用在物體表面可以實(shí)現(xiàn)下列功能：

1. 實(shí)現(xiàn)物體的超潔凈清洗

2.物體表面活化、蝕刻、精整

3.等離子表面涂覆

主要應(yīng)用領(lǐng)域： 1、半導(dǎo)體元件、印刷線路板的清洗。 2、高分子材料表面修飾 3、生物芯片、微流控芯片的清洗 4、芯片、電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗 5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。 6、光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。 7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質(zhì)的清洗。 8、各種醫(yī)療器材和儀器的清洗。 9、增加復(fù)合材料、生物分子材料表面的結(jié)合力。

10. 有機(jī)材料微觀低溫灰化、煤的低溫灰化

北京燕京電子有限公司代理的Harrick Plasma等離子清洗器是專業(yè)用于表面清洗、表面處理和表面分子重組的環(huán)保型設(shè)備。它具有設(shè)計(jì)精巧、成本低廉、功能等優(yōu)點(diǎn)；廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、復(fù)合材料、塑料、聚合物和生物材料的表面處理。

主要特點(diǎn)：

1. 臺(tái)式設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊精致

2. 低、中、高三檔可調(diào)節(jié)功率

3. 設(shè)備輻射小，安全環(huán)保

4. 功能、能夠滿足客戶不同的研究需要

技術(shù)參數(shù)	基本型- PDC-32G-2 等離子清洗器
外形尺寸	8.5"H x 10"W x 8"D（215mm x 254mm x 203mm）
輸入電源	220 V／50Hz
輸入功率	100 W
重量	6.0kg
常用工作氣體	空氣、氬氣、氮?dú)饣蚧旌蠚怏w等
功率檔	低檔	680V DC、10mA DC、6.8W
	中檔	700V DC、15mA DC、10.5W
		720V DC、25mA DC、18W
基本配置	直徑3英寸（76mm），長(zhǎng)6.5英寸（165mm）的耐熱玻璃艙體可拆卸艙蓋最大為18W的RF線圈 1/8英寸NPT針閥 1/8英寸NPT三通閥

必配件：真空泵

選配件：氣體計(jì)量混合器PlasmaFloTM

石英等離子清洗艙

石英托盤(pán)（用于放置樣品）

該公司產(chǎn)品分類(lèi)：恒流泵恒壓恒流進(jìn)樣泵微流控

PDC-002 等離子清洗器（擴(kuò)展型） Plasma Cleaner

擴(kuò)展型：PDC-002 外形尺寸：11"H x 18"W x 9"D（279mm x 457mm x 228mm）重量： 20.0kg 輸入電源：220 V／50Hz 輸入功率：200 W 功率檔：低檔716V DC、10mA DC、7.16W 中檔720V DC、15mA DC、10.15W 740V DC、40mA DC、29.6W 常用工作氣體：空氣、氬氣、氮?dú)饣蚧旌蠚怏w等基本配置：直徑6英寸（152mm），長(zhǎng)6.5英寸（165mm）璃艙體。含磁力鎖和可視窗的鉸鏈艙蓋。最大為30W的RF線圈。 1/8英寸NPT針閥 1/8英寸NPT三通閥選配件：石英等離子清洗艙

石英托盤(pán)（用于放置樣品）氣體計(jì)量混合器PlasmaFloTM 周邊設(shè)備：擴(kuò)展型專用真空泵（PDC-VP-2）
- 主要特點(diǎn)
- 1、臺(tái)式設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊精致。 2、低、中、高三檔可調(diào)節(jié)功率，最大可為30W. 3、設(shè)備輻射小，安全環(huán)保。 4、CE安全認(rèn)證。 5、功能，能夠滿足客戶的不同研究需要。
- 主要應(yīng)用領(lǐng)域： 1、半導(dǎo)體元件、印刷線路板的清洗。 2、高分子材料表面修飾 3、生物芯片、微流控芯片的清洗 4、芯片、電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗 5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。 6、光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。 7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質(zhì)的清洗。 8、各種醫(yī)療器材和儀器的清洗。 9、增加復(fù)合材料、生物分子材料表面的結(jié)合力。

該公司產(chǎn)品分類(lèi)：恒流泵恒壓恒流進(jìn)樣泵微流控

PDC—M型低溫等離子清洗器

　　　　等離子清洗器專業(yè)用于表面清洗、表面處理和表面分子重組的高科技設(shè)備, http://www.meifukeji.com 數(shù)字電橋數(shù)字示波器直流電子負(fù)載函數(shù)信號(hào)發(fā)生器是一種小型化、非破壞性的超清洗設(shè)備。通過(guò)其處理，能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂�！　〉入x子清洗器采用氣體作為清洗介質(zhì)，地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子清洗器外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，http://www.ygsmc.com 張家港飲料設(shè)備全自動(dòng)吹瓶機(jī) 果粒飲料生產(chǎn)線三合一灌裝機(jī)短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。等離子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料，在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。它具有設(shè)計(jì)精巧、成本低廉、功能等優(yōu)點(diǎn)；廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、復(fù)合材料、塑料、聚合物和生物材料的表面處理。一、主要應(yīng)用領(lǐng)域：1、半導(dǎo)體元件、印刷線路板的清洗。2、高分子材料表面修飾3、生物芯片、微流控芯片的清洗4、芯片、電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。6、光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質(zhì)的清洗。8、各種醫(yī)療器材和儀器的清洗。9、增加復(fù)合材料、生物分子材料表面的結(jié)合力�！　〉入x子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、http://www.zhihe17.com高低溫循環(huán)箱高低溫測(cè)試箱高溫高壓蒸煮儀調(diào)溫調(diào)濕箱電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域�！　�(yōu)點(diǎn)：　　1、地清除表面有機(jī)污染物�！　�2、清洗快速、操作簡(jiǎn)便、使用和維護(hù)成本極低�！　�3、非破壞性、對(duì)被清洗物表面光潔度無(wú)損害�！　�4、綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、無(wú)二次污染�！　�5、低溫條件下清洗，被清洗物的溫度變化微小�！　�6、能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。小型開(kāi)煉機(jī) 雙輥機(jī) HunterLab 滾齒機(jī) 插銑床 IC卡電表純凈水生產(chǎn)線 BOSCH電磁閥 Brookfield 鎧裝熱電偶WRNK 多功能血液溶漿機(jī) 溫度校驗(yàn)系統(tǒng) 裝配熱電偶拉力機(jī)生產(chǎn)廠家射線探傷機(jī) 賀德克濾芯膠囊充填機(jī) 土肥儀自動(dòng)化車(chē)床專用設(shè)備 FESTO傳感器無(wú)線膠裝機(jī) SMC減壓閥西門(mén)子電動(dòng)調(diào)節(jié)閥西林瓶輸液瓶軋蓋機(jī) 旋轉(zhuǎn)壓片機(jī) EP標(biāo)準(zhǔn)品臭氧滅菌設(shè)備熱電代理防爆泛光燈玉米秸稈打捆機(jī) 數(shù)控自動(dòng)鉆床

Harrick基本型等離子清洗器

主要應(yīng)用

1，表面活化改性，增加粘接牢固性及浸潤(rùn)性；

2，表面清洗，去除表面雜質(zhì)等；

3，提供等離子環(huán)境，對(duì)于光聚合化學(xué)反應(yīng)等等提供相關(guān)反應(yīng)條件；

4，殺菌等其他應(yīng)用。

技術(shù)參數(shù)

主要特征：臺(tái)式設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊精致。

低、中、高三檔可調(diào)節(jié)功率，最大可為18W.

設(shè)備輻射小，安全環(huán)保。

外形尺寸：8.5"H x 10"W x 8"D（215mm x 254mm x 203mm）

重量： 6.0kg

輸入電源：220 V／50Hz

輸入功率：100 W

功率檔：低檔680V DC、10mA DC、6.8W

中檔700V DC、15mA DC、10.5W

高檔720V DC、25mA DC、18W

常用工作氣體：空氣、氬氣、氮?dú)饣蚧旌蠚怏w等

基本配置：直徑3英寸，長(zhǎng)6.5英寸的耐熱玻璃艙體。

可拆卸艙蓋。

最大為18W的RF線圈。

1/8英寸NPT針閥

1/8英寸NPT三通閥

選備件

選件一：氣體計(jì)量混合器PlasmaFloTM

含兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的氣體流量計(jì)(1.0 SCFH & 2.0 SCFH)

適用氣體：空氣、氮?dú)�、氬氣或混合氣體

選件二：真空泵

PDC-VP-2 (220V)抽真空速度(50/60 Hz): 3.2/3.6 m3/hr

PDC-VPE-2 (220V)抽真空速度(50/60 Hz): 5.1 m3/hr

選件三：石英等離子清洗艙及托盤(pán)

等離子表面處理設(shè)備生命科學(xué)儀器表面分析儀器電子測(cè)量?jī)x器

Harrick 擴(kuò)展型等離子清洗器

主要應(yīng)用

1，表面活化改性，增加粘接牢固性及浸潤(rùn)性；

2，表面清洗，去除表面雜質(zhì)等；

3，提供等離子環(huán)境，對(duì)于光聚合化學(xué)反應(yīng)等等提供相關(guān)反應(yīng)條件；

4，殺菌等其他應(yīng)用。

技術(shù)參數(shù)

主要特征：臺(tái)式設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊精致。

低、中、高三檔可調(diào)節(jié)功率，最大可為30W.

設(shè)備輻射小，安全環(huán)保。

外形尺寸：11"H x 18"W x 9"D（279mm x 457mm x 228mm）

重量： 20.0kg

輸入電源：220 V／50Hz

輸入功率：200 W

功率檔：低檔716V DC、10mA DC、7.16W

中檔720V DC、15mA DC、10.15W

高檔740V DC、40mA DC、29.6W