Phenom G6 pureFEI臺(tái)式掃描電鏡Phenom飛納 標(biāo)準(zhǔn)版
產(chǎn)品性能：
第六代 Phenom Pure 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。Pure 具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)，適用于傳統(tǒng)大電鏡待測(cè)樣品的快速篩選，也適合于光學(xué)顯微鏡的分辨率無(wú)法滿足需求的客戶。
Phenom Pure 經(jīng)濟(jì)型標(biāo)準(zhǔn)版
產(chǎn)品參數(shù)
電子顯微鏡：175,000 倍
探測(cè)器：高靈敏度四分割背散射電子探測(cè)器
燈絲材料：1,500 小時(shí) CeB6 燈絲
分辨率：優(yōu)于 10 nm
放置環(huán)境：采用業(yè)防震設(shè)計(jì)，可擺放于普通實(shí)驗(yàn)室或辦公室、廠房
加速電壓：5kV 和 10kV
抽真空時(shí)間：小于 15
復(fù)納科學(xué)儀器 (上海) 有限公司 (Phenom-Scientific)，負(fù)責(zé)荷蘭飛納臺(tái)式掃描電鏡在中國(guó)市場(chǎng)的推廣和銷售，提供業(yè)的技術(shù)支持和測(cè)試服務(wù)，飛納中國(guó)擁有業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)，提供優(yōu)化的解決方案；飛納中國(guó)提出飛納學(xué)校 （Phenom University）的概念，為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進(jìn)階培訓(xùn)，在上海、北京、廣州設(shè)立了測(cè)試中心和售后服務(wù)中心，目飛納在中國(guó)已經(jīng)擁有超過(guò) 1500 名用戶。
DelongLVEM5臺(tái)式透射電子顯微鏡-掃描電鏡
  | Delong America Inc. 榮譽(yù)出品 • 世界唯一的小型臺(tái)式透射電子顯微鏡（TEM） • 世界唯一的多用途臺(tái)式電子顯微鏡 • 透射電鏡（TEM）、電子衍射（ED）、掃描電鏡（SEM）、掃描透射電鏡（STEM）四種成像模式 • 分辨率：2nm（TEM）；3nm（SEM） • Schottky場(chǎng)發(fā)射電子槍：高亮度、高對(duì)比度 • 觀察生物樣品無(wú)需染色 • 體積僅為傳統(tǒng)透射電鏡1/10，價(jià)格僅為其1/5  |
| 臺(tái)式設(shè)計(jì)：體積小巧，靈活性高，價(jià)格低 傳統(tǒng)透射電子顯微鏡體積龐大，對(duì)放置環(huán)境有著嚴(yán)格的要求，并且需要制冷機(jī)等外置設(shè)備。通常會(huì)占據(jù)整間實(shí)驗(yàn)室。LVEM5從根本上區(qū)別于傳統(tǒng)電鏡，尺寸較傳統(tǒng)電鏡縮小了90%，對(duì)放置環(huán)境無(wú)嚴(yán)格要求，無(wú)需任何外置冷卻設(shè)備，可以安裝用戶所需的任意實(shí)驗(yàn)室或辦公室桌面。價(jià)格僅為傳統(tǒng)電鏡的1/5，是目前性價(jià)比最高的電子顯微鏡。 |  |
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Schottky場(chǎng)發(fā)射電子槍：高亮度/高對(duì)比度 電子槍類型是決定電鏡性能的重要參數(shù)。LVEM5采用特殊設(shè)計(jì)的倒置肖特基（Schottky）場(chǎng)發(fā)射電子槍，提供高亮度高相干的電子束。電子槍使用壽命可達(dá)2000小時(shí)以上。 傳統(tǒng)TEM多采用100kV以上電子束加速電壓，高能電子束不能區(qū)分輕材料中相近的密度和原子序數(shù)，對(duì)于輕元素樣品（C、N、O樣品，生物樣品）難以獲得好的對(duì)比度，影響圖像質(zhì)量。 LVEM5采用5kV低電壓設(shè)計(jì)，低電壓電子束對(duì)密度和原子序數(shù)有很高的靈敏度，對(duì)于小到0.005 g/cm3的密度差別仍能得到很好的圖像對(duì)比度。例如，對(duì)20nm碳膜樣品，5KV電壓下比100KV電壓下對(duì)比度提高10倍以上。而LVEM5的空間分辨率在低電壓下仍能達(dá)到2nm。 |  |
 未經(jīng)染色的老鼠心臟切片在80kV透射電鏡下得到的圖像，與LVEM5下得到的圖像。 LVEM5采用5kV低加速電壓，圖像具有更好的對(duì)比度 | |
| TEM-STEM-ED-SEM 四種成像模式 TEM模式 LVEM5是世界上唯一的臺(tái)式透射電子顯微鏡，同時(shí)也是唯一的低加速電壓（5kV）透射電鏡。同傳統(tǒng)透射電鏡（80-200kV）相比，增加了電子束與樣品的相互作用，從而提高了圖像對(duì)比度 ? 提高了圖像對(duì)比度 ? 無(wú)需重金屬染色即可觀察輕元素樣品（如生物樣品） ? 避免染色造成的假象，觀察樣品真實(shí)結(jié)構(gòu) 分辨率2nm，放大倍數(shù) 5000-202,000x，圖像采集：2048 x 2048SEM模式 掃描電鏡（SEM）模式可用于觀察任意固體樣品。在SEM模式下，LVEM5采用4分割背散射探測(cè)器，提供多個(gè)觀測(cè)角度。 普通掃描電鏡在觀察不導(dǎo)電樣品時(shí)，需要對(duì)樣品進(jìn)行噴金、噴碳處理，以增加樣品導(dǎo)電性。LVEM5的另一優(yōu)點(diǎn)在于，無(wú)需噴金可直接觀測(cè)不導(dǎo)電樣品。 分辨率3nm，放大倍數(shù) 640x - 1,000,000x，圖像采集：2048 x 2048 STEM模式 在掃描透射電子顯微（STEM）模式下，電子束被聚焦到很小直徑，在樣品上進(jìn)行掃描。可用于觀察厚度較厚的樣品或染色樣品 ED模式 電子衍射（ED）可用于確定樣品的晶體結(jié)構(gòu)、結(jié)晶度、相組成. |  |
 TEM：細(xì)胞器  STEM：聚乙烯單晶 |  ED：ZnO單晶  SEM：水凝膠 |
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| 用戶列表 LVEM5在全球范圍已擁有麻省理工、加州大學(xué)、喬治亞理工、慕尼黑大學(xué)、曼徹斯特大學(xué)等50多個(gè)用戶。優(yōu)異的性能為LVEM5贏得了用戶的一片贊譽(yù)。 更多用戶列表請(qǐng)點(diǎn)擊  |
| 技術(shù)參數(shù)表 |
電子顯微鏡SEM掃描電鏡選擇價(jià)格
日本Hitachi在電子顯微鏡領(lǐng)域一向以引領(lǐng)技術(shù)潮流著稱：1972年發(fā)布全球第一臺(tái)場(chǎng)透射電子微鏡，經(jīng)過(guò)30多年的發(fā)展，日立開(kāi)發(fā)、應(yīng)用了大量的新技術(shù)，例如電子槍多重偏壓、浸沒(méi)式(In-lens)、半浸沒(méi)式(Semi In-lens)物鏡、E x B式探測(cè)器，電子減速功能等等。推出了一系列性能優(yōu)異、應(yīng)用廣泛的新型號(hào)電鏡，受到了用戶的一致好評(píng)。Hitachi公司除在日本有自己的研法制造中心外，在北美和歐洲也擁有研究開(kāi)發(fā)中心，在全球六十多個(gè)國(guó)家經(jīng)營(yíng)銷售、技術(shù)支持和提供維修服務(wù)。 Hitachi公司將納米尺度呈獻(xiàn)給研究人員和生產(chǎn)廠商。 在成功推出S-3000系列后，推出新型S-3400N型鎢燈絲SEM，它集成了Hitachi多年開(kāi)發(fā)的新技術(shù)，例如新型電子槍、大錐角物鏡、5分割半導(dǎo)體式背散射探頭、物鏡光闌自動(dòng)合軸等等，極大地提高設(shè)備的性能和應(yīng)用擴(kuò)展能力、使操作和維護(hù)更加簡(jiǎn)易。 S-4800屬于場(chǎng)發(fā)射SEM，它集成S-4700和S-5200型的優(yōu)點(diǎn)，采用新型E x B式探測(cè)器和電子束減速功能提高了圖像質(zhì)量，特別是低電壓的圖像分辨率；新型的透鏡系統(tǒng)，提供了高分辨模式、高束流模式、大工作距離模式、磁性樣品模式等多種工作模式。 作為掃描電鏡配套的能譜分析儀器，我們供應(yīng)日本Horiba公司或美國(guó)EDAX公司的產(chǎn)品。 S-4800場(chǎng)發(fā)射SEM系統(tǒng)： 1. 分辨率：二次電子（SE）成像：高真空模式：1.0 nm (15KV)、1.4~2.0 nm (1KV)2. 放大倍率：低倍模式20 ～2,000倍；高倍模式100 ～800,800倍 3. 電子槍：冷陰極場(chǎng)發(fā)射電子源，束流1pA–2nA；加速電壓：0.5～30 kV；3級(jí)電磁透射會(huì)聚系統(tǒng) 4. 樣品室可容納樣品左右直徑200 mm，同心樣品臺(tái)，四軸自動(dòng)，可安裝EDS、冷卻臺(tái)附件 5. 移動(dòng)最大范圍：X = 110 mm /Y = 110 mm /Z =1.5~40.0mm /R=360°；傾斜T：范圍不小于-5°～70°(手動(dòng)) 6. 探測(cè)器：二次電子檢測(cè)器、固體背散射電子檢測(cè)器；樣品室 IR-CCD 相機(jī) 7. 圖像掃描：不低于5120×3840像素；圖像顯示1280×960像素
CCU-010 HV_CT-010瑞士Safematic電鏡制樣設(shè)備CCU-010 HV_CT-010高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀
緊湊型、模塊化和智能化CCU-010 HV_CT-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的熱蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì)，變換鍍膜頭非常簡(jiǎn)單。在鍍膜之和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理(可選項(xiàng))。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測(cè)裝置。
特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)✬高性能蒸發(fā)鍍碳和可選等離子處理✬有的自動(dòng)碳源卷送設(shè)計(jì)–多達(dá)數(shù)十次碳鍍膜，無(wú)需用戶干預(yù)✬獨(dú)特的即插即用蒸碳鍍膜模塊✬一流的真空性能和快速抽真空✬結(jié)構(gòu)緊湊、可靠且易于維修✬雙位置膜厚監(jiān)控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
巧妙的真空設(shè)計(jì)CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀涵蓋了高的SEM，TEM和薄膜應(yīng)用。特別選擇和設(shè)計(jì)的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時(shí)間。兩個(gè)附加的標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭允許連接第三方設(shè)備。
CT-010碳蒸發(fā)模塊緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹(shù)立了新標(biāo)桿。將該頭插入CCU-010 HV鍍膜主體后，即可立即使用，既適合EDS噴碳應(yīng)用，更適合SEM、TEM和任何需要高質(zhì)量碳膜應(yīng)用的場(chǎng)合。CT-010使用歐洲有的、獨(dú)特且技術(shù)先的碳繩卷軸系統(tǒng)，可以進(jìn)行多達(dá)數(shù)十次涂層的鍍膜，而無(wú)需更換碳源。一段碳繩蒸發(fā)后，新的一段會(huì)自動(dòng)進(jìn)，用過(guò)的碳繩會(huì)掉落到方便的收集盤(pán)中。除了易于使用外，自動(dòng)卷軸系統(tǒng)還允許在一個(gè)鍍膜循環(huán)內(nèi)可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。易于選擇的鍍膜模式可保障鍍膜安全，從對(duì)溫度敏感的樣品進(jìn)行溫和的蒸鍍薄膜到在FIB應(yīng)用中厚膜層的高功率閃蒸鍍碳。整合脈沖蒸發(fā)、自動(dòng)啟動(dòng)擋板后除氣及膜厚監(jiān)控的智能電源控制提供了精確的膜層厚度，并可避免火花引起的表面不均勻。
GD-010輝光放電模塊可選的GD-010輝光放電系統(tǒng)可快速安裝，通過(guò)空氣、氬氣或其它用氣體進(jìn)行表面處理，例如，使碳膜親水。本機(jī)可按順序進(jìn)行碳鍍膜和輝光放電處理，無(wú)需“破”真空或更換處理頭，大地簡(jiǎn)化了操作過(guò)程。本單元安裝到CT-010，與所有樣品臺(tái)兼容。
ET-010等離子刻蝕單元在對(duì)樣品進(jìn)行鍍膜之或鍍膜之后，可選對(duì)樣品進(jìn)行等離子刻蝕處理。使用該附件，可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜清潔樣品，增加薄膜的附著力。也可在樣品鍍碳后進(jìn)行等離子處理，從而對(duì)碳膜表面進(jìn)行改性。
Coating-LAB軟件（可選）使用基于PC的Coating-LAB軟件，可查看包括圖表信息在內(nèi)的處理數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)包括壓力、電流、電壓、鍍膜速率和膜厚，鍍膜速率為實(shí)時(shí)曲線。便捷的軟件升和參數(shù)設(shè)置讓此智能工具更為完美。
RC-010手套箱應(yīng)用的遠(yuǎn)程控制軟件（可選）◎基于window的遠(yuǎn)程控制軟件◎創(chuàng)建和調(diào)用配方◎?qū)崟r(shí)圖表，包含導(dǎo)出功能（Excel、png等）◎自動(dòng)連接到設(shè)備
可選多種樣品臺(tái)CCU-010系列噴金噴碳儀提供一個(gè)直徑不小于60mm的樣品臺(tái)，該樣品臺(tái)插入到高度可調(diào)且可傾斜的樣品臺(tái)支架上。可選其它用的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、行星臺(tái)、載玻片樣品臺(tái)等。
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀及其版本CCU-010 HV 系列高真空鍍膜系統(tǒng)為滿足電鏡樣品制備域及材料科學(xué)薄膜應(yīng)用的高要求而設(shè)計(jì)。CCU-010 HV 高真空鍍碳儀采用優(yōu)質(zhì)組件和智能設(shè)計(jì)，可在超高分辨率應(yīng)用中提供出色的結(jié)果。該設(shè)備是全自動(dòng)抽真空和全自動(dòng)操作，采用TFT 觸摸屏，配方可編程，保證結(jié)果可重復(fù)。CCU-010 HV 標(biāo)配抽真空系統(tǒng)完全無(wú)油，含高性能渦輪泵和隔膜泵，均位于內(nèi)部，外部沒(méi)有笨重的旋轉(zhuǎn)泵和真空管路。這是一款尺寸合理的桌上型高真空鍍膜儀。使用無(wú)油抽真空系統(tǒng)可將鍍層中的污染或缺陷降至低。關(guān)閉時(shí)，該設(shè)備可以保持在真空下，這有效地保護(hù)了系統(tǒng)免受灰塵和濕氣的影響，并為高質(zhì)量的鍍層創(chuàng)造了快速抽真空和有利的真空條件。
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀版本：CCU-010 HV高真空磁控離子濺射鍍膜儀；CCU-010 HV高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀；CCU-010 HV高真空離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 HV高真空手套箱用鍍膜儀
CCU-010 HV 系列高真空鍍膜儀的主要亮點(diǎn)在于實(shí)現(xiàn)了兩大技術(shù)性突破：一是獨(dú)家采用自動(dòng)碳纖維卷繞系統(tǒng)，在每次蒸發(fā)后自動(dòng)推進(jìn)碳纖維，在不破真空更換碳源的情況下可進(jìn)行數(shù)十次的鍍碳運(yùn)行，比市場(chǎng)上常見(jiàn)的單次、雙次或四次碳纖維鍍膜方式節(jié)省大量的人工操作，既適用于大多數(shù)常規(guī)鍍碳應(yīng)用，也適用于超薄或超厚碳膜以及溫度敏感樣品的應(yīng)用。二是將“鍍膜對(duì)樣品表面進(jìn)行等離子清潔（增加附著力）+鍍膜+鍍膜后對(duì)膜層表面進(jìn)行改性（比如：親水化）或刻蝕”全流程集于同一臺(tái)儀器同一次真空下完成，大大提高了鍍膜質(zhì)量，拓寬了應(yīng)用范圍。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品質(zhì)”的代名詞；瑞士原廠貨源，覃思本地服務(wù)，客戶買(mǎi)得放心、用得省心！
FERA3 XMU/XMH超級(jí)聚焦離子束掃描電鏡，掃描電鏡分析，透射掃描電鏡
FERA3 XMU/XMH是TESCAN最新推出的一款超級(jí)聚焦離子束掃描電鏡,以高品質(zhì),完全計(jì)算機(jī)控制,用戶友好界面為基礎(chǔ)的系列產(chǎn)品。這款聚焦離子束掃描電鏡的FIB部分處理速度是普通FIB的50倍，而且具有使用方便,產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,分析高效為特點(diǎn)的獨(dú)創(chuàng)設(shè)計(jì)。該型號(hào)樣品臺(tái)行程大，可承受最大樣品重量甚至可達(dá)10Kg，是現(xiàn)有樣品臺(tái)可載重最大的掃描電子顯微鏡。使用于航空航天，汽車配件，發(fā)動(dòng)機(jī)等事業(yè)單位和研究單位，其超大的樣品室和載重可為您帶來(lái)無(wú)可比擬的便捷，使得對(duì)一些不方便進(jìn)行切割等處理的樣品的觀察成為可能。
超級(jí)聚焦離子束掃描電鏡，掃描電鏡分析，透射掃描電鏡超級(jí)聚焦離子束掃描電鏡主要特點(diǎn)：
國(guó)內(nèi)首家使用中文操作界面的電鏡廠商 1.系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了電子束和離子束的共聚焦，有氣體注入系統(tǒng); 2.可以提供五種觀察影像模式:分辨率模式;景深模式;視野模式;大視野模式,channeling模式，可以非常方便的尋找樣品位置; 3.獨(dú)創(chuàng)的低真空二次電子探測(cè)器(LVSTD). 4.紅外線樣品室內(nèi)攝像裝置,可以在測(cè)量同時(shí)觀測(cè)樣品; 5.真空系統(tǒng)采用一臺(tái)機(jī)械泵和一臺(tái)分子泵，F(xiàn)IB電子槍部分使用離子泵，抽真空速度快,在更換樣品后,三分鐘內(nèi)就可達(dá)到待測(cè)狀態(tài);并且不需要使用冷卻水冷卻. 6.采用主動(dòng)式電磁減震系統(tǒng)，對(duì)環(huán)境的要求更寬泛 7.先進(jìn)的軟件系統(tǒng),在數(shù)據(jù)儲(chǔ)存數(shù)據(jù)記錄數(shù)據(jù)打印等方面具有多種創(chuàng)新功能. 8.完善的自動(dòng)功能，能幫助您更快更好的獲取圖片 9.12個(gè)以上外擴(kuò)展接口,可安裝更多的附件10.可進(jìn)行遠(yuǎn)程控制 超級(jí)聚焦離子束掃描電鏡，掃描電鏡分析，透射掃描電鏡
配掃描電鏡的X射線能譜儀
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| 產(chǎn)品說(shuō)明、技術(shù)參數(shù)及配置 | |||
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5eV輸入電壓：DC 12V/500mA計(jì)數(shù)率可達(dá)：100KCPS工作溫度：15—30℃工作濕度：≤70%掃描電鏡技術(shù)服務(wù)
詳情請(qǐng)登入:www.biovol.net
透射掃描電鏡檢測(cè)實(shí)驗(yàn)技術(shù)服務(wù)
透射掃描電鏡檢測(cè)實(shí)驗(yàn)技術(shù)服務(wù)技術(shù)服務(wù)介紹產(chǎn)品資料
透射電子顯微鏡在材料科學(xué)、生物學(xué)上應(yīng)用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會(huì)影響到后的成像質(zhì)量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時(shí)的樣品需要處理得很薄。常用的方法：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對(duì)于液體樣品，通常是掛預(yù)處理過(guò)的銅網(wǎng)上進(jìn)行觀察。
掃描電鏡主要用二次電子觀察形貌，成像原理如圖所示。在掃描電鏡中，電子槍發(fā)射出來(lái)的電子束，經(jīng)三個(gè)電磁透鏡聚焦后，成直徑為幾個(gè)納米的電子束。末透鏡上部的掃描線圈能使電子束在試樣表面上做光柵狀掃描。試樣在電子束作用下，激發(fā)出各種信號(hào)，信號(hào)的強(qiáng)度取決于試樣表面的形貌、受激區(qū)域的成分和晶體取向。設(shè)在試樣附近的探測(cè)器把激發(fā)出的電子信號(hào)接受下來(lái)，經(jīng)信號(hào)處理放大系統(tǒng)后，輸送到顯象管柵以調(diào)制顯象管的亮度。由于顯象管中的電子束和鏡筒中的電子束是同步掃描的，顯象管上各點(diǎn)的亮度是由試樣上各點(diǎn)激發(fā)出的電子信號(hào)強(qiáng)度來(lái)調(diào)制的，即由試樣表面上任點(diǎn)所收集來(lái)的信號(hào)強(qiáng)度與顯象管屏上相應(yīng)點(diǎn)亮度之間是對(duì)應(yīng)的。因此，試樣各點(diǎn)狀態(tài)不同，顯象管各點(diǎn)相應(yīng)的亮度也必不同，由此得到的象定是試樣狀態(tài)的反映。放置在試樣斜上方的波譜儀和能譜儀是用來(lái)收集X射線，借以實(shí)現(xiàn)X射線微區(qū)成分分析的。值得強(qiáng)調(diào)的是，入射電子束在試樣表面上是逐點(diǎn)掃描的，象是逐點(diǎn)記錄的，因此試樣各點(diǎn)所激發(fā)出來(lái)的各種信號(hào)都可選錄出來(lái)，并可同時(shí)在相鄰的幾個(gè)顯象管上顯示出來(lái)，這給試樣綜合分析帶來(lái)大的方便。
技術(shù)服務(wù)內(nèi)容參數(shù)規(guī)格
| 編號(hào) | 項(xiàng)目 | 價(jià)格 | 備注 |
| 1 | 掃描電鏡觀察 | 詢價(jià) | 我方提供試劑，每樣拍5-8張圖片 |
| 2 | 透射電鏡觀察細(xì)胞和組織（無(wú)特殊定位） | 詢價(jià) | 我方提供試劑，每樣拍5-8張圖片 |
| 3 | 電鏡觀察植物 | 詢價(jià) | 我方提供試劑，每樣拍5-8張圖片 |
| 4 | 電鏡觀察細(xì)菌 | 詢價(jià) | 我方提供試劑，每樣拍5-8張圖片 |
透射掃描電鏡檢測(cè)實(shí)驗(yàn)技術(shù)服務(wù)客戶須知注意事項(xiàng)
電鏡標(biāo)本要求
1）透射電鏡需客戶提供1mm3 左右的組織塊，取材部位要求盡量精準(zhǔn)。
2）掃描電鏡，需客戶提供10*10*5mm大小的組織塊。
3）如為細(xì)胞，細(xì)胞數(shù)需≥106
實(shí)驗(yàn)周期
20個(gè)工作日內(nèi)（具體實(shí)驗(yàn)周期視實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)方案而異）
公司介紹創(chuàng)凌生物直致力于生命醫(yī)學(xué)和生物技術(shù)域的積累與沉淀，目創(chuàng)凌生物技術(shù)研發(fā)團(tuán)隊(duì)50余人，配備了先進(jìn)的分析和檢測(cè)設(shè)備，通過(guò)自主創(chuàng)新以及與國(guó)內(nèi)外的科研單位合作研發(fā)，不斷突破新技術(shù)，質(zhì)量成熟，各類產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)贏得了眾多科研機(jī)構(gòu)的認(rèn)可。
SU5000新型熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡哪里有賣？
產(chǎn)品介紹：
日立全新一代熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000繼承了日立半導(dǎo)體行業(yè)掃描電鏡CD-SEM高穩(wěn)定性和易操作的特點(diǎn)，不僅具有強(qiáng)大的觀察分析能力，同時(shí)具有全新的操作體驗(yàn)。SU5000既滿足了專業(yè)電鏡操作者對(duì)高分辨觀察和分析的需求，也滿足了電鏡初學(xué)者對(duì)高質(zhì)量圖片的需求，是一臺(tái)操作簡(jiǎn)便且功能強(qiáng)大的掃描電鏡。
胡先生 158--6255 / QQ： 122-600-6936
主要特點(diǎn)：
? 高穩(wěn)定性熱場(chǎng)發(fā)射電子槍
? 全新的EM Wizard軟件，無(wú)需設(shè)置參數(shù)即可獲得高質(zhì)量圖片
? 高分辨率和強(qiáng)大的分析能力
? 樣品適用性強(qiáng)：不導(dǎo)電樣品直接觀察（低真空功能，10-300Pa）
? 全新的multi-finder功能，方便快捷的尋找樣品
? 附件功能強(qiáng)大：拉伸臺(tái)，冷熱臺(tái)，電子束曝光，紅外CCD，離子束清潔系統(tǒng)等。
EMS 25掃描電鏡冷臺(tái)
- Peltier 電制冷冷臺(tái)及二次液體冷卻
- 真空接口，具有Peltier電源，冷卻及溫度可監(jiān)視
- 可選液體冷卻裝置（可用掃描電鏡冷卻水或自來(lái)水）
- 具有P.I.D（Proportional, Integral, Derivative）數(shù)字控制單元，可設(shè)置輸入目標(biāo)溫度點(diǎn)及測(cè)量溫度顯示
- 直流低電壓Peltier電源
- EMS 25可用于市場(chǎng)上各種掃描電鏡（Hitachi, Leo, Joel or FEI SEM），用鍵盤(pán)和雙顯示器作為溫度控制和顯示，同時(shí)顯示實(shí)際溫度和目標(biāo)溫度。真空接口板具有所有連接，雙重微處理器控制。
- 溫度范圍從 -35℃ 到75℃，3分鐘內(nèi)從室溫降臨至 -25℃
- 可用于各種掃描電鏡—通過(guò)不同的接口板
- 同時(shí)顯示實(shí)際溫度和目標(biāo)溫度
- 控制單元體積小優(yōu)點(diǎn)
- 對(duì)VP/EP & ESEM 來(lái)說(shuō)，系統(tǒng)通用性強(qiáng)
- 樣品快速冷卻
- 通用系統(tǒng)
- 當(dāng)系統(tǒng)準(zhǔn)備后很容易觀察
| 樣品臺(tái)溫度控制范圍 | +70℃ to -30℃，分辨率 +/- 1℃ |
| 典型的操作溫度 | 3 分鐘內(nèi)從室溫+25℃ 降至-25℃ |
| 溫度顯示精度 | 0.1℃ |
| 溫度穩(wěn)定度 | 0.2℃ |
| 控制單元體積 | 137mm H x 235mm W x 260mm |
| 樣品尺寸 | 正常樣品大小, 最大直徑為 25mm |
| X,Y 正常物臺(tái) | 保持移動(dòng)功能傾斜：X射線分析正常移動(dòng)（典型為45 |
| 工作距離 | +/- 25mm |
| 旋轉(zhuǎn) | 大于180° |
| 電源 | 230V單相,5 Amp max |
| 貨號(hào) | 產(chǎn)品名稱 | 規(guī)格 |
| 90100 | EMS25 Cooling Stage | 臺(tái) |
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