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    • 濕法清洗設(shè)備產(chǎn)品及廠家

      IPA干燥機(jī)
      ipa干燥機(jī)主要用于4寸,6寸,8寸晶圓的干燥; 設(shè)備的電氣控制單元與氣動(dòng)單元后置獨(dú)立安裝,提高了設(shè)備的使用安全性與維護(hù)性;設(shè)備的各種管件、接頭均采用業(yè)廠家產(chǎn)品,保障了連接、使用的可靠性;
      更新時(shí)間:2024-11-12
      SRD晶圓甩干機(jī)
      fx880系列甩干機(jī)適用于硅片清洗甩干,立式雙桶設(shè)計(jì),可同時(shí)放置 2 個(gè)片架,轉(zhuǎn)子需根據(jù)使用者的片架來定制。為了方便使用,甩干機(jī)開門方向分為左開門、右開門兩種方式,可根據(jù)使用者的要求定制。
      更新時(shí)間:2024-11-12
      6/8英寸全自動(dòng)槽式清洗機(jī)
      gama系列6/8英寸全自動(dòng)槽式清洗機(jī)滿足全部濕法工藝需求,覆蓋rca、pr strip、solvent、wet etch等應(yīng)用,可用于典型0.35um、0.18um工藝節(jié)點(diǎn),可支持90nm工藝節(jié)點(diǎn),可兼容6寸和8寸晶圓。
      更新時(shí)間:2024-08-27
      12英寸槽式清洗設(shè)備
      pinnacle300平臺(tái)適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示域的清洗工藝。該機(jī)臺(tái)主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源柜等組成。傳輸模塊將晶圓傳送到指定位置,可同時(shí)傳送50片,工藝模塊用于清洗和蝕刻,藥液供給模塊用于高精度藥液配比、加熱、供給、濃度監(jiān)測。
      更新時(shí)間:2024-08-27
      RIE-800iPB 電感耦合等離子體
      samco 的 rie-800ipb 是一種電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備,使用高密度等離子體進(jìn)行 mems 和 tsv 應(yīng)用所需的深度硅蝕刻。rie-800ipb是為bosch工藝設(shè)計(jì)的用硅蝕刻系統(tǒng)(由robert bosch gmbh授權(quán))。該系統(tǒng)的反應(yīng)室、電、平臺(tái)和真空設(shè)計(jì)克服了在競爭系統(tǒng)中遇到的問題,可實(shí)現(xiàn)高速(約50 μm/min)、無傾斜、高剖面蝕刻,具有行業(yè)先的
      更新時(shí)間:2024-08-15
      RIE-800iPC 等離子體刻蝕設(shè)備
      高密度等離子體刻蝕設(shè)備系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室,是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng),具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
      更新時(shí)間:2024-08-15
      全自動(dòng)硅料清洗機(jī)
      主要用于對硅材料行業(yè)中多晶硅塊進(jìn)行清洗干燥處理
      更新時(shí)間:2024-08-15
      晶片清洗機(jī)
      本設(shè)備的設(shè)計(jì)、選購、制造、檢驗(yàn)和測試均按照相關(guān)國家、半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(semi-s2-93)執(zhí)行,iso9001質(zhì)量管理體系進(jìn)行規(guī)范和保證,但合同中或技術(shù)文件中另有規(guī)定的除外。外購配件執(zhí)行相應(yīng)的國家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范及企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。
      更新時(shí)間:2024-08-15
      硅芯清洗機(jī)
      設(shè)備介紹:本設(shè)備為柜體式腐蝕機(jī),整臺(tái)設(shè)備均采用進(jìn)口件.基本材質(zhì):箱體材質(zhì):德國茲白色聚丙烯(pp) 門板材質(zhì):德國透明聚氯乙烯(pvc)腐蝕槽材質(zhì):德國自然色聚偏二佛乙烯(pvdf)清洗槽材質(zhì):德國自然色聚丙烯板(npp)腐蝕槽配有美國聚四佛乙烯加熱器,虹吸上排,傳感器清洗槽配有溢流裝置和n2鼓泡裝置整機(jī)外形美觀,實(shí)用
      更新時(shí)間:2024-08-15
      硅片腐蝕清洗機(jī)
      適用對象:藍(lán)寶石晶片、砷化鎵晶片、碳化硅晶片、其它襯底基片
      更新時(shí)間:2024-08-15
      CMP后清洗機(jī)
      gnp cleaner-412r型cmp后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站,設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。
      更新時(shí)間:2024-08-14
      CMP后清洗機(jī)
      gnp cleaner-412s型cmp后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站,設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。
      更新時(shí)間:2024-08-14
      晶圓濕法清洗工作臺(tái)
      waferstorm平臺(tái)是先進(jìn)封裝、mems、射頻、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和光子學(xué)市場中許多關(guān)鍵溶劑型工藝的行業(yè)選擇。有 2 個(gè)版本——手動(dòng)加載 (ml) 和 3300 系列平臺(tái)。ml系統(tǒng)非常適合研發(fā)和試驗(yàn)環(huán)境。3300 系列平臺(tái)是該行業(yè)的大批量主力軍。
      更新時(shí)間:2024-08-14
      CMP后清洗機(jī)
      該系列設(shè)備是晶圓cmp后的用清洗設(shè)備,有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu),以適用不同應(yīng)用場景,其中連線式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、n2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面積小,濕進(jìn)干出,適用于各類cmp后晶圓的清洗。
      更新時(shí)間:2024-08-13
      CMP后清洗機(jī)
      該系列設(shè)備是碳化硅晶圓拋光后的用清洗設(shè)備,采用連線式結(jié)構(gòu),設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、n2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面積小,濕進(jìn)干出,適用于碳化硅晶圓拋光后的清洗。
      更新時(shí)間:2024-08-13
      晶圓清洗機(jī)
      高效的緊湊型清洗裝置,為您的流程提供支持977晶圓清洗機(jī)系統(tǒng)為切割后工件清洗和干燥而設(shè)計(jì),配有旋轉(zhuǎn)卡盤臺(tái)、旋轉(zhuǎn)清洗/干燥臂。臂可配置霧化清潔噴嘴或高壓噴嘴,滿足各種清潔度要求。
      更新時(shí)間:2024-08-13
      多工位甩干機(jī)
      f fx臥式srd系列適用于硅片清洗甩干,臥式大桶設(shè)計(jì),可同時(shí)放置 4-6 個(gè)片架,片架框需根據(jù)使用者的要求來定制。為了方便使用,甩干機(jī)分為高效型和熱氮型兩種方式,可根據(jù)使用者的要求定制。
      更新時(shí)間:2024-01-23

      最新產(chǎn)品

      熱門儀器: 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)(PH計(jì)) 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑
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