無掩模光刻機/直寫光刻機產(chǎn)品及廠家
本產(chǎn)品用于4~6英寸si類晶片打標(biāo)。設(shè)備全自動上下片，全自動定位？梢允褂脭(shù)字，文字，條形碼在晶片任意部位打標(biāo)。打標(biāo)速度120片每小時.
更新時間:2024-08-26
無掩模光刻機vpg 300 di是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準(zhǔn)確度進行書寫。大寫入?yún)^(qū)域覆蓋 300 mm 晶圓。
更新時間:2024-08-14
dwl 2000 gs / dwl 4000 gs 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)灰度光刻進行了優(yōu)化，設(shè)計用于集成電路、mems、微光學(xué)和微流體器件、傳感器、全息圖以及鈔票的防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。
更新時間:2024-08-14
mpo 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合 （tpp） 多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3d 光刻和 3d 顯微打印，適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)工程。模塊化 3d 打印平臺 mpo 100 可按需提供高精度 3d 光刻以及 3d 顯微打印的高打印量，并能夠在單個工藝步驟中以高吞吐量生產(chǎn)復(fù)雜的功能性微結(jié)構(gòu)。
更新時間:2024-08-14
speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其無掩膜光刻機配備了先進的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一基礎(chǔ)上，擁有了更高的光刻效率。其的性能特點使其特別適合小批量生產(chǎn)的場景。在該場景中，它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢，為生產(chǎn)帶來更高的效率和更好的質(zhì)量。
更新時間:2024-08-14
bio系列是生命科學(xué)版的無掩膜紫外光刻機，該設(shè)備具有更高的深寬比，能滿足生命科學(xué)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過程中，其高深寬比和高靈活性的特點得以展現(xiàn)，可確保芯片的質(zhì)量和性能。這使得它成為生命科學(xué)研究和相關(guān)應(yīng)用中的重要工具。
更新時間:2024-08-14
pg 300 di 是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準(zhǔn)確度進行書寫。大寫入?yún)^(qū)域覆蓋
更新時間:2024-08-14
ultra半導(dǎo)體光掩模光刻機是門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、led、物聯(lián)網(wǎng) （iot） 和 mems。ultra 是一種經(jīng)濟型光刻機解決方案，具有高吞吐量、精度和結(jié)構(gòu)均勻性以及其精確的對準(zhǔn)所需的所有特性和功能。標(biāo)準(zhǔn)配置包括全自動掩模處理、zerodur® 平臺、低失真光學(xué)元件和高精度位置控制等功能。
更新時間:2024-08-14
mla 300 無掩模光刻機 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （mes） 的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 ic、mems 和微流體器件。其他應(yīng)用包括分立電子元件、模擬和數(shù)字 ic、asic、電力電子、oled 顯示器和先進封裝。
更新時間:2024-08-14
els-boden σ這是elonix自創(chuàng)業(yè)以來多年來一直致力于開發(fā)的新型號的電子束光刻設(shè)備。 采用模塊系統(tǒng)，可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機構(gòu)和防振臺，為每個應(yīng)用構(gòu)建佳單元。
更新時間:2024-08-09
els-boden是由elionix開發(fā)的電子束光刻設(shè)備，非常適合研究和開發(fā)！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應(yīng)用。
更新時間:2024-08-09
els-hayate是由elionix研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻設(shè)備，提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉(zhuǎn)。，非常適合需要關(guān)注字段間拼接錯誤的應(yīng)用。
更新時間:2024-08-09
實驗室攪拌機系列e30-h電動數(shù)顯攪拌器（型）e30-h應(yīng)用領(lǐng)域|上海小型無刷攪拌機*_e30-h適用于生物、理化、化妝品、保健品、食品、試劑等實驗領(lǐng)域。是液體混和攪拌的實驗設(shè)備。產(chǎn)品理念設(shè)計新穎、制
更新時間:2024-06-09
本產(chǎn)品用于4~6英寸sic(含si）類晶片打標(biāo)。設(shè)備全自動上下片，全自動定位。可以使用數(shù)字，文字，條形碼在晶片任意部位打標(biāo)。打標(biāo)速度120片每小時.
更新時間:2024-02-01
dali無掩膜納米光刻機是一款采用亞納米精度激光操控技術(shù)為核心的超穩(wěn)定，桌面型，高精度，高速激光直寫設(shè)備。其核心技術(shù)已經(jīng)在在亞納米精度要求的儀器設(shè)備中經(jīng)過十幾年的應(yīng)用檢驗。超高精度，和超高穩(wěn)定性是dali無掩膜納米光刻機實現(xiàn)高性能的基礎(chǔ)。
更新時間:2023-08-18
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