<legend id="dnf07"></legend>
    

      • 

      <tr id="dnf07"><dfn id="dnf07"></dfn></tr>
      <dl id="dnf07"><label id="dnf07"></label></dl>
      • 
    
      
    

          
      
        
      
            
      
                
      
                    
      原子層沉積設備產品及廠家
      
                
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        AD-230LP 原子層沉積設備
                                                    
      
                        
      
                            
      ad-230lp 原子層沉積設備是一種原子層沉積（ald）系統(tǒng)，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供給反應室，僅通過表面反應進行薄膜沉積。該系統(tǒng)具有負載鎖定室，且不向大氣開放反應室，因此能夠實現(xiàn)薄膜沉積的優(yōu)良再現(xiàn)性。
      
                            更新時間:2024-08-15
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      kurt j. lesker company （kjlc） ald150le™是我們但其靈活的原子層沉積 （ald） 系統(tǒng)，為入門到中用戶而設計。該ald150le™配置為純熱原子層沉積，工藝室設計促進了均勻的母離子分散和輸送。加熱和溫度控制進一步增強了系統(tǒng)性能？傮w而言，該ald150le™在緊湊的設計中提供了的靈活性和性能，而不會犧牲可維護性。
      
                            更新時間:2024-08-15
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      veeco 是全球先的原子層沉積 （ald） 系統(tǒng)供應商，為研究和工業(yè)提供全面的服務和多功能的交鑰匙系統(tǒng)，這些系統(tǒng)易于訪問、經濟實惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的長。我們的 savannah&
      
                            更新時間:2024-08-14
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      phoenix®系統(tǒng)經過精心設計，可在從中試生產到工業(yè)制造的任何制造環(huán)境中實現(xiàn)高吞吐量和長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 phoenix® 在平面和 3d 基板上實現(xiàn)可
      
                            更新時間:2024-08-14
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        等離子增強原子層沉積PEALD
                                                    
      
                        
      
                            
      我們的 fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng)，采用靈活的架構和多種驅體和等離子體氣體配置，可適應各種沉積模式。fiji g2 是下一代 ald 系統(tǒng)，能夠執(zhí)行熱成像和等離子體增強沉積。
      
                            更新時間:2024-08-14
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      beneq tfs 200 是有史以來靈活的原子層沉積研究平臺，為學術研究和企業(yè)研發(fā)而設計。beneq tfs 200 經過門設計，可大限度地減少多用戶研究環(huán)境中可能發(fā)生的任何交叉污染。tfs 500 是薄膜鍍膜應用的理想選擇。作為第一個 beneq 反應器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。tfs 500 是多項目環(huán)境的理想工具。
      
                            更新時間:2024-08-13
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。
      
                            更新時間:2024-08-13
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      beneq p400a 為以優(yōu)化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環(huán)時間內保持出色的均勻性。我們的客戶將 p400a 用于光學鍍膜和在玻璃或金屬板上使用 ald 的應用。
      
                            更新時間:2024-08-13
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      beneq p800 門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 p800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ald 的各種應用。
      
                            更新時間:2024-08-13
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        空間原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      beneq c2r 將等離子體增強原子層沉積 （peald） 工藝提升到一個全新的水平 – peald 可用于大批量生產。由于采用等離子體增強旋轉原子層沉積工藝，beneq c2r 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。
      
                            更新時間:2024-08-13
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      beneq p1500 是我們大的原子層沉積系統(tǒng)，門用于涂覆大型板材和復雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 p1500 用于大直徑基板上的光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ald 的各種應用。
      
                            更新時間:2024-08-13
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      beneq transform在其多功能性和適應性方面建立了全新的ald集群工具產品，以滿足廣泛的應用和細分市場的需求。beneq transform 配置多個 ald 工藝模塊，以滿足特定的晶圓容量要求，或者在以后進行升，以響應不斷增長的數(shù)量或新的 ald 應用。
      
                            更新時間:2024-08-13
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      beneq transform 300 是一個高度通用的制造平臺，面向致力于 cis、電源、micro-oled/led、先進封裝和其他 mtm 應用的 idm 和代工廠。它是一種高度可配置的解決方案，適用于多種高薄膜應用，從柵電介質到鈍化和/或封裝等。
      
                            更新時間:2024-08-13
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      beneq prodigy™ 是 vcsel、led 和 mems 制造商和代工廠的理想制造解決方案，他們希望通過經濟實惠的獨立 ald 批處理工具提高設備性能和可靠性。beneq prodigy 為多種晶圓類型和尺寸提供同類佳的鈍化和/或封裝膜。
      
                            更新時間:2024-08-13
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積
                                                    
      
                        
      
                            
      用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。多種 ald 材料可供選擇，可滿足您的要求。 多年來，beneq 一直是用于研發(fā)和工業(yè)生產的卷對卷原子層沉積系統(tǒng)的先驅。我們的常用材料包括 al?o?、tio?、zno、zns、sio? 或可根據要求提供的任何其他材料。
      
                            更新時間:2024-08-09
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        原子層沉積（ALD）系統(tǒng)
                                                    
      
                        
      
                            
      ad-230lp是一種原子層沉積（ald）系統(tǒng)，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供給反應室，僅通過表面反應進行薄膜沉積。該系統(tǒng)具有負載鎖定室，且不向大氣開放反應室，因此能夠實現(xiàn)薄膜沉積的優(yōu)良再現(xiàn)性。
      
                            更新時間:2024-06-25
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                                
      
                                        
      
                        
                        
      
                                                        TFS 200原子層沉積ALD
                                                    
      
                        
      
                            
      tfs 200 是一款適用于科學研究和企業(yè)研發(fā)的靈活的 ald 平臺。 tfs 200 是為多用戶研究環(huán)境中將可能發(fā)生的交叉污染降至低而特別設計的。
      
                            更新時間:2024-06-04
                        
      
                        
                    
      
                                    
      
                            
      
            
        
      
        
      
            
            
      
                
      
                    
      最新產品
      
                
      
                      
            
      
        
      
    
      
    
      
    熱門儀器：
    液相色譜儀
    氣相色譜儀
    原子熒光光譜儀
    可見分光光度計
    液質聯(lián)用儀
    壓力試驗機
    酸度計（PH計）
    離心機
    高速離心機
    冷凍離心機
    生物顯微鏡
    金相顯微鏡
    標準物質
    生物試劑

    


      

      
    

      

亚洲阿v天堂在线观看2019,97免费人妻视在线视频,成人网站不卡在线观看,亚洲成av人电影在线无码


      <legend id="dnf07"></legend>
        

          • 

          <tr id="dnf07"><dfn id="dnf07"></dfn></tr>
          <dl id="dnf07"><label id="dnf07"></label></dl>
          •