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    • 光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家

      scs  3噸帶打印平臺秤 3t帶RS232接口電子磅秤
      3噸帶打印平臺秤 3t帶rs232接口電子磅秤?技術(shù)參數(shù):準(zhǔn)  確  度:符合jjg539-97中三級要求   使用電源:ac187~242v;49~
      更新時(shí)間:2024-11-21
        5噸1*1米不銹鋼小地磅 5t防水電子平臺秤
      5噸1*1米不銹鋼小地磅 5t防水電子平臺秤?想買質(zhì)量好的地磅就買上海漢衡的,為什么要選擇上海漢衡呢?因?yàn)槲覀儫o論是從工藝還是材質(zhì)方面都優(yōu)于其他廠家,凡是購買我司地磅的客戶,我們的技術(shù)員會免費(fèi)安裝并培
      更新時(shí)間:2024-11-21
        3噸打印小票電子地磅 3000kg雙層平臺秤
      3噸打印小票電子地磅 3000kg雙層平臺秤?廣泛應(yīng)用于倉庫、化工車間、貨場、藥廠、食品加工廠、水產(chǎn)集貿(mào)市場,工地等場所放貨物稱量, 可根據(jù)客戶要求訂制尺寸可根據(jù)需求定制。產(chǎn)品功能:1.秤臺由秤體和框
      更新時(shí)間:2024-11-21
        1.2*1.5米不銹鋼小地磅 10噸防水電子平臺秤
      1.2*1.5米不銹鋼小地磅 10噸防水電子平臺秤?想買質(zhì)量好的地磅就買上海漢衡的,為什么要選擇上海漢衡呢?因?yàn)槲覀儫o論是從工藝還是材質(zhì)方面都優(yōu)于其他廠家,凡是購買我司地磅的客戶,我們的技術(shù)員會免費(fèi)安
      更新時(shí)間:2024-11-21
      德國 KSI 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
      ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng),該系統(tǒng)同時(shí)使用8只換能器,能最大限度的確?焖賵D像采集和高效能。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      KSI 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
      ksi v1000e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡,用于研發(fā)和生產(chǎn)部門檢測特大件樣品
      更新時(shí)間:2024-11-21
      德國KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
      ksi v700e 單探頭超聲波掃描顯微鏡,用于檢測大件樣品
      更新時(shí)間:2024-11-21
      德國 KSI  單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
      ksi v400e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡,是實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)線主流機(jī)型。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      德國 KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
      ksi v300e 單探頭超聲波掃描顯微鏡,掃描機(jī)械機(jī)構(gòu)
      更新時(shí)間:2024-11-21
      百及納米PancanNano電子束光刻機(jī)
      新一代超高精度電子束光刻機(jī) p21,樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓,超高寫場拼接精度,電子束閉環(huán)控制系統(tǒng),束流的時(shí)間及空間穩(wěn)定性高,高性能 30 kv 電子束光刻機(jī)。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      OptiCool超精準(zhǔn)全開放強(qiáng)磁場低溫光學(xué)研究平臺
      opticool超精準(zhǔn)全開放強(qiáng)磁場低溫光學(xué)研究平臺,系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體,可在超大空間為您提供高達(dá)±7t的磁場。多達(dá)7個(gè)側(cè)面窗口、1個(gè)頂部超大窗口方便光線由各個(gè)方向引入樣品腔,高度集成式的設(shè)計(jì)讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時(shí)擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      低溫強(qiáng)磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡
      attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強(qiáng)磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡,采用模塊化的設(shè)計(jì)。利用標(biāo)配的控制器和樣品掃描臺,用戶僅需要更換掃描頭和對應(yīng)的光學(xué)部件即可實(shí)現(xiàn)不同功能之間的切換。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本JEOL熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡
      日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f,它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí),操作性能大簡單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能,始終能夠發(fā)揮其佳性能。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本JEOL發(fā)射掃描電子顯微鏡
      日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f,它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí),操作性能大簡單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能,始終能夠發(fā)揮其佳性能。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本JEOL能譜儀
      日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過與sem的馬達(dá)驅(qū)動樣品臺聯(lián)動使用,可以進(jìn)行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線,確定樣品含有的元素及成分比,可以進(jìn)行微區(qū)的點(diǎn)分析、線分析及面分析。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本JEOL掃描電子顯微鏡
      日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500,是jeol intouchscope系列的新機(jī)型。 從設(shè)定視野到生成報(bào)告,用于分析的軟件整合于一體,加快了作業(yè)速度!是一款無縫操作,使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本JEOL 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡
      日本jeol 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f,jsm-7200f的電子光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)用了日本電子旗艦機(jī)-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術(shù),標(biāo)配了ttls系統(tǒng)(through-the-lens system),因此無論是在高/低加速電壓下,空間分辨率都比傳統(tǒng)機(jī)型有了很大的提升。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本RION粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion粒子計(jì)數(shù)器:kc-22a ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:10000顆/l (誤差值低于5%),可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本RION粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion粒子計(jì)數(shù)器:kc-22b ( 光散射法),液體粒子計(jì)數(shù)器,可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器kc-31 ( 光散射法),測試粒徑(6個(gè)通道),大粒子數(shù)濃度:28000000 顆/l
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kc-32 ( 光散射法)測試粒徑(6個(gè)通道):≥0.3μm, ≥0.5μm , ≥1μm , ≥2μm, ≥5μm, ≥10μm
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kc-20a ( 光散射法),測試粒徑(5個(gè)通道):≥10μm, ≥20μm , ≥30μm , ≥50μm, ≥100μm
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本RION粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion粒子計(jì)數(shù)器:ka-05( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測試粒徑(2個(gè)通道):≥0.5μm , ≥5.0μm
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本RIO液體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rio液體粒子計(jì)數(shù)器ke-18fx ( 光散射法),測試粒徑(4個(gè)通道):≥0.04μm, ≥0.08μm , ≥0.1μm , ≥0.15μm,
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion液體光學(xué)顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:10 000 顆/l (誤差值低于10%),粒徑范圍(8個(gè)通道,出廠默認(rèn)):≥2μm, ≥3μm , ≥5μm , ≥7μm, ≥10μm, ≥25μm , ≥50μm , ≥100μm(可選 ≥150μm)
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion粒子計(jì)數(shù)器:kl-30ax ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:15 000 顆/l (誤差值低于10%), 粒徑范圍(4個(gè)通道,工廠標(biāo)配):≥0.04μm, ≥0.08μm , ≥0.1μm , ≥0.15μm
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kl-30a ( 光散射法), 測純水,可打印。大粒子數(shù)濃度:15 000 顆/l (誤差值低于10%), 粒徑范圍(4個(gè)通道,出廠設(shè)置):≥0.05μm, ≥0.1μm , ≥0.15μm , ≥0.2μm
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本理音RION 氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:kl-30b ( 光散射法), 測純水,可打印。大粒子數(shù)濃度:200 000 顆/l (誤差值低于10%),粒徑范圍(4個(gè)通道,出廠設(shè)置):≥0.05μm, ≥0.1μm , ≥0.15μm , ≥0.2μm
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本理音RION 手持式粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion 手持式粒子計(jì)數(shù)器:kc-51( 光散射方式),大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/m³ (誤差值低于10%)
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本理音RION 手持式粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion 手持式粒子計(jì)數(shù)器:kc-52( 光散射方式),粒徑范圍:5個(gè)通道: 0.3μm , 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/m³ (誤差值低于10%)
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本理音RION 氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:ka-02( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測試粒徑(2個(gè)通道):≥0.3μm , ≥0.5μm,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:ka-03( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測試粒徑(5個(gè)通道):≥0.3μm , ≥0.5μm ,≥1μm , ≥2μm ,≥5μm ,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
      更新時(shí)間:2024-11-21
      日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
      日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器:ka-82( 光散射方式),多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測試粒徑(5個(gè)通道):≥0.1μm , ≥0.15μm, ≥0.2μm , ≥0.3μm , ≥0.5μm ,大粒子數(shù)濃度:10 000顆/l (誤差值低于5%)
      更新時(shí)間:2024-11-21
      綠光納鉆孔設(shè)備
      玻璃去油墨設(shè)備,采用訂制紫外納激光器對玻璃表面進(jìn)行去油墨以及油墨微加工, 將產(chǎn)品損傷降至低。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      美國OAI光刻機(jī)
      oai 800型光學(xué)正面和背面光刻機(jī)系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學(xué)正面和背面光刻機(jī)。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對準(zhǔn)精度,旨在大大超過任何紅外背后對準(zhǔn)器性能的一個(gè)非常有競爭力的價(jià)格。通用模型800光刻機(jī)是理想的用于低產(chǎn)量、研發(fā)實(shí)驗(yàn)室和大學(xué)。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      瑞士納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī)機(jī)
      瑞士nanofrazor 3d納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī),源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心,是其在納米加工技術(shù)的新研究成果。nanofrazor納米3d結(jié)構(gòu)直寫機(jī)第 一次將納米尺度下的3d結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      中國nanoArch科研3D打印機(jī)
      nanoarch科研3d打印機(jī)m160 ,本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng),兼顧高精度和多材料打印,可支持同時(shí)打印4種樹脂基復(fù)合材料進(jìn)行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印,適用于基礎(chǔ)理論驗(yàn)證及原理創(chuàng)新研究,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。其主要應(yīng)用在點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復(fù)合材料、復(fù)雜微流控,多材料4d打印等方面。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      中國nanoArch科研3D打印機(jī)
      nanoarch微納3d打印機(jī) p130/s130 ,科研3d打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      中國nanoArch科研3D打印機(jī)
      nanoarch 3d打印機(jī)p140/s140 ,科研3d打印系統(tǒng),擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      理音RION 采樣器統(tǒng)
      理音rion kz-30uk采樣器,易于操作的室內(nèi)化學(xué)采樣器,當(dāng)腔體壓力過高的時(shí)候, 可以排凈空氣,防止發(fā)生故障 ,設(shè)計(jì)簡單的化學(xué)防爆采樣器,kz-30uk的設(shè)計(jì)是可以為 離線測試的液體粒子計(jì)數(shù)器提供加壓。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      美Nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)
      美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng):nte-4000 獨(dú)立式電子束蒸鍍,nte-3500 緊湊型獨(dú)立式熱蒸鍍,nte-3000 雙蒸源臺式熱蒸鍍系統(tǒng),nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      美Nano-master磁控濺射系統(tǒng)
      美nano-master磁控濺射系統(tǒng):nsc-4000獨(dú)立式磁控濺射系統(tǒng),可支持共濺射等能力的擴(kuò)展nsc-3500緊湊型獨(dú)立式熱蒸鍍,可以支持金屬材料的dc濺射,介質(zhì)材料的rf濺射,以及脈沖dc濺射等應(yīng)用。nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺式濺射系統(tǒng),不但可用于電鏡制備,也可以用于常規(guī)的金屬濺射
      更新時(shí)間:2024-11-21
      NANO-MASTER的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD系統(tǒng)
      nano-master的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質(zhì)量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜;蹇梢匀菁{8英寸晶圓,可通過射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓,可通過熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns
      更新時(shí)間:2024-11-21
      美NANO-MASTER電子束蒸鍍系統(tǒng)
      nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000,可通過樣片掩膜實(shí)現(xiàn)組合蒸鍍,并可通過電腦控制單個(gè)電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動上下片,以及手動或自動翻轉(zhuǎn)樣片實(shí)現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng),也可以跟磁控濺射
      更新時(shí)間:2024-11-21
      美NANO-MASTER  IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
      ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng):nie-4000 獨(dú)立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨(dú)立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨(dú)立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射
      更新時(shí)間:2024-11-21
      美Nano-master等離子清洗/灰化系統(tǒng)
      nano-master等離子清洗和灰化系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于廣泛的需求,從批處理和單晶圓的光刻膠剝離到晶圓表面改性都可以涵蓋。這些系統(tǒng)通過計(jì)算機(jī)控制,可以配套不同的等離子源,加熱和不加熱的基片夾具,以及獨(dú)一無二的從等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式的能力。$r
      更新時(shí)間:2024-11-21
      美Nano-master  ALD/PEALD原子層沉積系統(tǒng)
      美nano-master ald/peald原子層沉積:nld-4000 獨(dú)立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨(dú)立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺式ald系統(tǒng)
      更新時(shí)間:2024-11-21
      美國Trion批量生產(chǎn)用設(shè)備去膠系統(tǒng)
      jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng),通過全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)更簡便的操作,更快的刻寫速度,更小的占地面積和安裝空間,并且更加綠色節(jié)能。
      更新時(shí)間:2024-11-21
      英國Nanobean 電子束光刻機(jī)
      美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
      更新時(shí)間:2024-11-21
      美Coherent 準(zhǔn)分子激光器
      美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
      更新時(shí)間:2024-11-21

      最新產(chǎn)品

      熱門儀器: 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)(PH計(jì)) 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑
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