光學平臺產品及廠家
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設計。利用標配的控制器和樣品掃描臺，用戶僅需要更換掃描頭和對應的光學部件即可實現(xiàn)不同功能之間的切換。
更新時間:2024-11-21
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時間:2024-11-21
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時間:2024-11-21
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過與sem的馬達驅動樣品臺聯(lián)動使用，可以進行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進行微區(qū)的點分析、線分析及面分析。
更新時間:2024-11-21
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機型。 從設定視野到生成報告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業(yè)速度！是一款無縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時間:2024-11-21
日本jeol 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學系統(tǒng)應用了日本電子旗艦機-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術，標配了ttls系統(tǒng)（through-the-lens system），因此無論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統(tǒng)機型有了很大的提升。
更新時間:2024-11-21
日本rion粒子計數(shù)器：kc-22a ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：10000顆/l （誤差值低于5%）,可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時間:2024-11-21
日本rion粒子計數(shù)器：kc-22b ( 光散射法）,液體粒子計數(shù)器，可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時間:2024-11-21
日本rion氣體粒子計數(shù)器kc-31 ( 光散射法）,測試粒徑（6個通道）,大粒子數(shù)濃度：28000000 顆/l
更新時間:2024-11-21
日本rion氣體粒子計數(shù)器：kc-32 ( 光散射法）測試粒徑（6個通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm
更新時間:2024-11-21
日本rion氣體粒子計數(shù)器：kc-20a ( 光散射法）,測試粒徑（5個通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm
更新時間:2024-11-21
日本rion粒子計數(shù)器：ka-05( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑（2個通道）：≥0.5μm ， ≥5.0μm
更新時間:2024-11-21
日本rio液體粒子計數(shù)器ke-18fx ( 光散射法）,測試粒徑（4個通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，
更新時間:2024-11-21
日本rion液體光學顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法），大粒子數(shù)濃度：10 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（8個通道，出廠默認）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可選 ≥150μm）
更新時間:2024-11-21
日本rion粒子計數(shù)器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，工廠標配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新時間:2024-11-21
日本rion氣體粒子計數(shù)器：kl-30a ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，出廠設置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時間:2024-11-21
日本rion氣體粒子計數(shù)器：kl-30b ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：200 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（4個通道，出廠設置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時間:2024-11-21
日本rion 手持式粒子計數(shù)器：kc-51( 光散射方式）,大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）
更新時間:2024-11-21
日本rion 手持式粒子計數(shù)器：kc-52( 光散射方式）,粒徑范圍：5個通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）
更新時間:2024-11-21
日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-02( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（2個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）
更新時間:2024-11-21
日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-03( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（5個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）
更新時間:2024-11-21
日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-82( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（5個通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子數(shù)濃度：10 000顆/l （誤差值低于5%）
更新時間:2024-11-21
玻璃去油墨設備,采用訂制紫外納激光器對玻璃表面進行去油墨以及油墨微加工， 將產品損傷降至低。
更新時間:2024-11-21
oai 800型光學正面和背面光刻機系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學正面和背面光刻機。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對準精度,旨在大大超過任何紅外背后對準器性能的一個非常有競爭力的價格。通用模型800光刻機是理想的用于低產量、研發(fā)實驗室和大學。
更新時間:2024-11-21
瑞士nanofrazor 3d納米結構高速直寫機，源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心，是其在納米加工技術的新研究成果。nanofrazor納米3d結構直寫機第 一次將納米尺度下的3d結構直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。
更新時間:2024-11-21
nanoarch科研3d打印機m160 ，本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng)，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時打印4種樹脂基復合材料進行層間或層內多材料3d打印，適用于基礎理論驗證及原理創(chuàng)新研究，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。其主要應用在點陣結構材料、功能梯度材料、超材料、復合材料、復雜微流控，多材料4d打印等方面。
更新時間:2024-11-21
nanoarch微納3d打印機 p130/s130 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2024-11-21
nanoarch 3d打印機p140/s140 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2024-11-21
理音rion kz-30uk采樣器，易于操作的室內化學采樣器，當腔體壓力過高的時候， 可以排凈空氣，防止發(fā)生故障 ，設計簡單的化學防爆采樣器，kz-30uk的設計是可以為 離線測試的液體粒子計數(shù)器提供加壓。
更新時間:2024-11-21
美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)：nte-4000 獨立式電子束蒸鍍，nte-3500 緊湊型獨立式熱蒸鍍，nte-3000 雙蒸源臺式熱蒸鍍系統(tǒng)，nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。
更新時間:2024-11-21
美nano-master磁控濺射系統(tǒng)：nsc-4000獨立式磁控濺射系統(tǒng)，可支持共濺射等能力的擴展nsc-3500緊湊型獨立式熱蒸鍍，可以支持金屬材料的dc濺射，介質材料的rf濺射，以及脈沖dc濺射等應用。nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺式濺射系統(tǒng)，不但可用于電鏡制備，也可以用于常規(guī)的金屬濺射
更新時間:2024-11-21
nano-master的等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜；蹇梢匀菁{8英寸晶圓，可通過射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓，可通過熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns
更新時間:2024-11-21
nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000，可通過樣片掩膜實現(xiàn)組合蒸鍍，并可通過電腦控制單個電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動上下片，以及手動或自動翻轉樣片實現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng)，也可以跟磁控濺射
更新時間:2024-11-21
ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng)：nie-4000 獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射
更新時間:2024-11-21
nano-master等離子清洗和灰化系統(tǒng)設計用于廣泛的需求，從批處理和單晶圓的光刻膠剝離到晶圓表面改性都可以涵蓋。這些系統(tǒng)通過計算機控制，可以配套不同的等離子源，加熱和不加熱的基片夾具，以及獨一無二的從等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式的能力。$r
更新時間:2024-11-21
美nano-master ald/peald原子層沉積：nld-4000 獨立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺式ald系統(tǒng)
更新時間:2024-11-21
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設計優(yōu)化，實現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時間:2024-11-21
nanoarch p130是科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2024-11-21
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時間:2024-11-21
30型uv光源是高效的，可用于各種應用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當?shù)臒簦òǎ。輸出功率范圍?00瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜？蛇x配遠程排氣風扇。
更新時間:2024-11-21
oai 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器，采用經過行業(yè)驗證的組件，使oai成為光刻設備行業(yè)的導者。 200型是臺式面罩對準器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點生產提供了經濟的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對準和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠實現(xiàn)一微米分辨率和對準精度。
更新時間:2024-11-21
2012sm型自動邊緣曝光系統(tǒng)為使用標準陰影掩模技術的邊緣珠去除提供了一種經濟高效的方法。 設計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現(xiàn)，從而增加該生產工具的通用性和高產量。
更新時間:2024-11-21
2012sm型自動邊緣曝光系統(tǒng)為使用標準陰影掩模技術的邊緣珠去除提供了一種經濟高效的方法。 設計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現(xiàn)，從而增加該生產工具的通用性和高產量。
更新時間:2024-11-21
兩種型號的2000型曝光系統(tǒng)包括uv光源，強度控制電源和機器人襯底處理子系統(tǒng)。 uv光源提供發(fā)散半角<2.0％的可調強度光束。電源從200w到2,000w。強度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強度監(jiān)控。機器人襯底處理系統(tǒng)是微處理器控制的，并且可以被編程以適應各種各樣的襯底尺寸。
更新時間:2024-11-21
oai 5000e型大面積掩光刻機是一種先進的高性能，全自動掩模對準器和曝光工具，可為大型平板應用提供超精密，頂，亞微米對準和分辨率。 其靈活的設計允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計算機控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。
更新時間:2024-11-21
phabler 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質量很好。
更新時間:2024-11-21
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2024-11-21
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2024-11-21
最新產品
- COMAX蜂鳴器H100T.024.3 2024/11/22 22:05:53
- CBI風機KB27RD0 2024/11/22 21:57:33
- 上海外墻維修 高空作業(yè) 曲臂車登高 2024/11/22 20:17:47
- 上海希而代理品牌beck壓力變送器984,985系列準現(xiàn)貨供應 2024/11/22 19:20:07
- 上海希而科——beck品牌984,985系列壓力變送器，打造高效工業(yè)自動化解決方案 2024/11/22 19:15:10
- Ahlborn多功能數(shù)據采集器原裝進口ALMEMO® 2690-8A 2024/11/22 18:15:38
- 磨床磨削中心架巴氏合金拖瓦 2024/11/22 18:15:32
- ALMEMO® 2690-8A多功能數(shù)據采集器原裝進口 2024/11/22 18:06:03
- 優(yōu)勢供應#歐洲原廠進口#FESTO備件VUVG-S14-M52-MZT-Q4-1H2L-W1 2024/11/22 18:00:42
- 優(yōu)勢供應#歐洲原廠進口#FEIN備件30719933010 2024/11/22 17:59:20
- 優(yōu)勢供應#歐洲原廠進口#FEIN備件63131030010 2024/11/22 17:58:31
- 優(yōu)勢供應#歐洲原廠進口#FEIN備件62908014000 2024/11/22 17:57:50
- 優(yōu)勢供應#歐洲原廠進口#FEIN備件31912105010 2024/11/22 17:57:13
- 德國安福EFFEFF陰極鎖76-14 美標門禁電鎖 2024/11/22 17:50:28
- 安福EFFEFF陰極鎖76-14 美標電鎖口 木門鎖 2024/11/22 17:44:03
- 市場推送6FC5851-1YG44-6YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:40:29
- 信賴推送6FC5851-1XG00-0YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:39:30
- 資訊6ES7416-2XP07-0AB0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:38:46
- 市場推送6ES7416-2XK04-0AB0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:37:57
- 信賴推送6FC5851-1XG46-4YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:37:12
- 臺風資訊6FC5851-1XG46-3YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:36:30
- 臺風資訊6FC5851-1XG44-5YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:35:42
- 供應6ES7314-6CH04-0AB0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:34:54
- 暖心推送6FC5851-1XG45-2YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:34:03
- 市場推送6FC5851-1YG46-4YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:33:19
- 科技6FC5851-1YG45-2YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:32:28
- 物流6FC5851-1XG41-5YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:31:46
- 信賴推送6FC5851-1YG45-4YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:31:04
- 臺風資訊6FC5851-1YG44-2YA8西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:30:23
- 物流6FC5851-1YG40-5YA0西門子SIEMENS軟件 2024/11/22 17:29:25