直觀好用的Windows? 7操作環(huán)境
自動(dòng)聚焦和消象散設(shè)置
一鍵式預(yù)置高分辨或高產(chǎn)出模式
功能全面的NanoSuite軟件,包括強(qiáng)大的鄰近效應(yīng)修正和GDSII CAD圖形編輯
寫場(chǎng)大至500 μm,實(shí)時(shí)進(jìn)行動(dòng)態(tài)修正
新研制的靜電偏轉(zhuǎn)器
50 MHz圖形發(fā)生器
曝光效率高至1cm2/h(占空比50%)
VOYAGER是根據(jù)用戶的寶貴的需求和反饋來(lái)進(jìn)行研制的。
寬松的環(huán)境指標(biāo):迷你小環(huán)境,允許大的溫度波動(dòng)和噪聲容忍度
基于先進(jìn)和靈活的現(xiàn)場(chǎng)可編程門陣列設(shè)計(jì),圖形發(fā)生器可現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)
集成的變焦鏡頭可實(shí)現(xiàn)束電流范圍寬,且可連續(xù)調(diào)節(jié)
高分辨成像和量度,用于曝光結(jié)果的檢測(cè)和確認(rèn)
強(qiáng)大而靈活的對(duì)準(zhǔn)能力,任何形狀和位置的標(biāo)記都可識(shí)別
智能化的設(shè)計(jì)意味著蘊(yùn)含很多聰明的點(diǎn)子,曝光結(jié)果更理想。
創(chuàng)新
VOYAGER電子束直寫系統(tǒng)在系統(tǒng)構(gòu)建和曝光應(yīng)用上都體現(xiàn)出了創(chuàng)新
先進(jìn)的電子槍設(shè)計(jì),含三個(gè)透鏡,用于快速及方便的對(duì)準(zhǔn)
InLens二次電子探測(cè)器,圖像清晰且真實(shí)
緊湊開關(guān)模式電源
無(wú)拼接曝光模式(連續(xù)移動(dòng)工作臺(tái)+移動(dòng)電子束),對(duì)應(yīng)長(zhǎng)路徑或周期性圖形
專業(yè)的三維曝光模式,如菲涅耳透鏡模擬和大面積灰度位圖曝光
經(jīng)濟(jì)
VOYAGER從大局到小細(xì)節(jié)都圍繞著全面實(shí)現(xiàn)提高功效和性價(jià)比的設(shè)計(jì)理念
迷你小環(huán)境節(jié)省了設(shè)備整個(gè)使用時(shí)間內(nèi)的房間環(huán)境費(fèi)用
占地小,節(jié)約了實(shí)驗(yàn)室面積
光刻機(jī)內(nèi)還含有高分辨成像功能和樣品導(dǎo)航選址能力
只換燈絲部分而不用更換電子槍整體,更換費(fèi)用降低
其他為設(shè)備所有者節(jié)約費(fèi)用的優(yōu)化
更多VOYAGER 新一代高速度電子束曝光系統(tǒng)介紹,請(qǐng)查看:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=481
電子束曝光系統(tǒng)(electron beam lithography, EBL)是一種利用電子束在工件面上掃描直接產(chǎn)生圖形的裝置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式與電子束曝光機(jī)十分相近,美國(guó)JC Nabity Lithography Systems公司成功研發(fā)了基于改造商品SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置(Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng),簡(jiǎn)稱NPGS,又稱電子束微影系統(tǒng))。電子束曝光技術(shù)具有可直接刻畫精細(xì)圖案的優(yōu)點(diǎn),且高能電子束的波長(zhǎng)短(< 1 nm),可避免繞射效應(yīng)的困擾,是實(shí)驗(yàn)室制作微小納米電子元件理想選擇。相對(duì)于購(gòu)買昂貴的用電子束曝光機(jī)臺(tái),以既有的SEM等為基礎(chǔ),外加電子束控制系統(tǒng),透過(guò)電腦介面控制電子顯微鏡中電子束之矢量掃描,以進(jìn)行直接刻畫圖案,在造價(jià)方面可大幅節(jié)省,且兼具原SEM 的觀測(cè)功能,在功能與價(jià)格方面均具有優(yōu)勢(shì)。由于其具有高分辨率以及低成本等特點(diǎn),在北美研究機(jī)構(gòu)中,JC Nabity的NPGS是非常熱銷的配套于掃描電鏡的電子束微影曝光系統(tǒng),而且它的應(yīng)用在各地越來(lái)越廣泛。NPGS的技術(shù)目標(biāo)是提供一個(gè)功能強(qiáng)大的多樣化簡(jiǎn)易操作系統(tǒng),結(jié)合使用市面上已有的掃描電鏡、掃描透射電鏡或聚焦離子束裝置,用來(lái)實(shí)現(xiàn)藝術(shù)的電子束或離子束平版印刷技術(shù)。NPGS能成功滿足這個(gè)目的,得到了當(dāng)眾多用戶的強(qiáng)烈推薦和一致肯定。一. 技術(shù)描述:為滿足納米電子束曝光的要求,JC Nabity的NPGS系統(tǒng)設(shè)計(jì)了一個(gè)納米圖形發(fā)生器和數(shù)模轉(zhuǎn)換電路,并采用PC機(jī)控制。PC機(jī)通過(guò)圖形發(fā)生器和數(shù)模轉(zhuǎn)換電路去驅(qū)動(dòng)SEM等儀器的掃描線圈,從而使電子束偏轉(zhuǎn)并控制束閘的通斷。通過(guò)NPGS可以對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣片進(jìn)行圖像采集以及掃描場(chǎng)的校正。配合精密定位的工件臺(tái),還可以實(shí)現(xiàn)曝光場(chǎng)的拼接和套刻。利用配套軟件也可以新建或?qū)攵喾N通用格式的曝光圖形。(一) 電子源(Electron Source)曝照所需電子束是由既有的SEM、STEM或FIB產(chǎn)生的電子束(離子束)提供。(二) 電子束掃描控制(Beam Scanning Control)電子射出后,受數(shù)千乃至數(shù)萬(wàn)伏特之加速電壓驅(qū)動(dòng)沿顯微鏡中軸向下移動(dòng),并受中軸周圍磁透鏡(magnetic lens)作用形成聚焦電子束而對(duì)樣本表面進(jìn)行掃描與圖案刻畫。掃描方式可分為循序掃描(raster scan)與矢量掃描(vector scan)。循序掃描是控制電子束在既定的掃描范圍內(nèi)進(jìn)行逐點(diǎn)逐行的掃描,掃描的點(diǎn)距與行距由程式控制,而當(dāng)掃描到有微影圖案的區(qū)域時(shí),電子束開啟進(jìn)行曝光,而當(dāng)掃描到無(wú)圖案區(qū)域時(shí),電子束被阻斷;矢量掃描則是直接將電子束移動(dòng)到掃描范圍內(nèi)有圖案的區(qū)域后開啟電子束進(jìn)行曝光,所需時(shí)間較少。掃描過(guò)程中,電子束的開啟與阻斷是由電子束阻斷器(beam blanker)所控制。電子束阻斷器通常安裝在磁透鏡組上方,其功效為產(chǎn)生一大偏轉(zhuǎn)磁場(chǎng)使電子束完全偏離中軸而無(wú)法到達(dá)樣本。(三) 阻劑(光阻)阻劑(resist)是轉(zhuǎn)移電子束曝照?qǐng)D案的媒介。阻劑通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。高能電子束的照射會(huì)改變阻劑材料的特性,再經(jīng)過(guò)顯影(development)后,曝照(負(fù)阻劑)或未曝照(正阻劑)的區(qū)域?qū)?huì)留在基材表面,顯出所設(shè)計(jì)的微影圖案,而后續(xù)的制程將可進(jìn)一步將此圖案轉(zhuǎn)移到阻劑以下的基材中。PMMA(poly-methyl methacrylate)是電子束微影中很常用的正阻劑,是由單體甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)經(jīng)聚合反應(yīng)而成。用在電子阻劑的PMMA 通常分子量在數(shù)萬(wàn)至數(shù)十萬(wàn)之間,受電子束照射的區(qū)域PMMA 分子量將變成數(shù)百至數(shù)千,在顯影時(shí)低分子量與高分子量PMMA 溶解度的對(duì)比非常大。負(fù)阻劑方面,多半由聚合物的單體構(gòu)成。在電子束曝照的過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生聚合反應(yīng)形成長(zhǎng)鏈或交叉鏈結(jié)(crosslinking)聚合物,所產(chǎn)生的聚合物較不易被顯影液溶解因而在顯影后會(huì)留在基板表面形成微影圖案。目常用的負(fù)阻劑為化學(xué)倍增式阻劑(chemically amplified resist),經(jīng)電子束曝照后產(chǎn)生氫離子催化鏈結(jié)反應(yīng),具有高解析度、高感度,且抗蝕刻性高。(四) 基本工序電子束微影曝光技術(shù)的基本工序與光微影曝光技術(shù)相似,從上阻、曝照到顯影,各步驟的參數(shù)(如溫度、時(shí)間等等)均有賴于使用者視需要進(jìn)行校對(duì)與調(diào)整。二. 主要技術(shù)指標(biāo):型號(hào):NPGS細(xì)線寬(μm):根據(jù)SEM小束斑(μm):根據(jù)SEM掃描場(chǎng):可調(diào)加速電壓:根據(jù)SEM,一般為0-40kV速度:5MHz(可選6MHz)A. 硬件:微影控制介面卡:NPGS PCI-516A High Speed Lithography Board,high resolution (0.25%)控制電腦:Pentium IV 3.0GHz/ 512Mb RAM/ 80G HD/ Windows XP皮可安培計(jì):KEITHLEY 6485 PicoammeterB. 軟件:微影控制軟件 NPGS V9.1 for Windows2000 或 XP 圖案設(shè)計(jì)軟件 DesignCAD LT 2000 for Windows三. 應(yīng)用簡(jiǎn)述NPGS電鏡改裝系統(tǒng)能夠制備出具有高深寬比的微細(xì)結(jié)構(gòu)納米線條,從而為微電子域如高精度掩模制作、微機(jī)電器件制造、新型IC研發(fā)等相關(guān)的微/納加工技術(shù)提供了新的方法。NPGS系統(tǒng)作為制作納米尺度的微小結(jié)構(gòu)與電子元件的技術(shù)平臺(tái),以此為基礎(chǔ)可與各種制程技術(shù)與應(yīng)用結(jié)合。應(yīng)用范圍和域取決于客戶的現(xiàn)有資源,例如: NPGS電子束曝光系統(tǒng)可與等離子應(yīng)用技術(shù)做很有效的整合,進(jìn)行各項(xiàng)等離子制程應(yīng)用的開發(fā)研究,簡(jiǎn)述如下:(一) 半導(dǎo)體元件制程等離子制程已廣泛應(yīng)用于當(dāng)半導(dǎo)體元件制程,可視為電子束微影曝光技術(shù)的下游工程。例如:(1) 等離子刻蝕(plasma etching)(2) 等離子氣相薄膜沉積(plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD)(3) 濺鍍(sputtering)(二) 微機(jī)電元件制程(Semiconductor Processing)微機(jī)電元件在制程上與傳統(tǒng)半導(dǎo)體元件制作有其差異性。就等離子相關(guān)制程而言,深刻蝕(deep etching)是主要的應(yīng)用,其目標(biāo)往往是完成深寬比達(dá)到102 等的深溝刻蝕或晶圓穿透刻蝕。而為達(dá)成高深寬比,深刻蝕采用二種氣體等離子交替的過(guò)程?涛g完成后可輕易以氧等離子去除側(cè)壁覆蓋之高分子。在微機(jī)電元件制作上,深刻蝕可與電子束微影曝光技術(shù)密切結(jié)合。電子束微影曝光技術(shù)在圖案設(shè)計(jì)上之自由度十分符合復(fù)雜多變化的微機(jī)電元件構(gòu)圖。一旦完成圖案定義,將轉(zhuǎn)由深刻蝕技術(shù)將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓基板。
設(shè)備型號(hào) | FC/BJD-2000 | FC/BCD-2800 | FC-3800 | FC-4400 |
2inch 晶圓 | 42 | N/A | N/A | N/A |
3inch 晶圓 | 17 | 47 | N/A | N/A |
100mm晶圓 | 13 | 25 | 53 | 55 |
150mm晶圓 | 5 | 12 | 25 | 30 |
200mm晶圓 | N/A | 6 | 14 | 15 |
聯(lián)系人:張先生 139-11514522 (12531012#qq.com)
西瑪 吸錫泵/C0014 庫(kù)號(hào):RL187840 | 產(chǎn)品描述:西瑪 吸錫泵/C00141.鋁合金一體成型。吸力強(qiáng)勁,快速有效去除焊錫迅速分離連接件;2.優(yōu)質(zhì)的PTFE三吸嘴,耐高溫,耐溶劑性能優(yōu)良;3.經(jīng)常清潔泵內(nèi),以保證正常使用。 ???? |
西瑪 電烙鐵芯/C0017A-30 庫(kù)號(hào):RL187841 | 產(chǎn)品描述:西瑪 電烙鐵芯/C0017A-30C0017 電烙鐵配件 |
世達(dá) 快速升溫雙功率電烙鐵/03263 庫(kù)號(hào):RL187842 | 產(chǎn)品描述:1、傳統(tǒng)電烙鐵只有一種功率,但此款特有兩種功率,只需按鈕,功率既能由20W提升至130W,一支電烙鐵能同時(shí)焊接不同大小元件。2、配用陶瓷發(fā)熱元件,絕熱層手柄不會(huì)燙手,設(shè)計(jì)輕巧,使用時(shí)手感舒適。產(chǎn)品參數(shù):1、電源電壓:220V/50HZ2、絕緣電阻:100兆歐3、電氣強(qiáng)度:3750V 一分鐘不擊穿4、消耗功率:20W/130W注意事項(xiàng):1、請(qǐng)保持烙鐵頭頭部始終掛錫。2、請(qǐng)勿敲打烙鐵頭。3、請(qǐng)勿采用較強(qiáng)酸性助焊劑。4、嚴(yán)禁在電烙鐵通電使用時(shí),拆卸電熱部分零件。5、非專業(yè)維修人員,請(qǐng)勿自行拆 |
西瑪 環(huán)保型電烙鐵/C0017-30 庫(kù)號(hào):RL187843 | 產(chǎn)品描述:西瑪 環(huán)保型電烙鐵/C0017-30GS TUV認(rèn)證產(chǎn)品,保證品質(zhì)。三插插頭,無(wú)鉛產(chǎn)品,環(huán)保設(shè)計(jì)。注意事項(xiàng):1.在使用不含松香焊錫時(shí),焊接處要涂上松香劑;2.要等焊錫凝固后方可移動(dòng)焊接處;3.通電后的烙鐵溫度非常高,處理不當(dāng)會(huì)造成燙傷或引起火災(zāi),請(qǐng)小心處理;4.烙鐵頭經(jīng)特殊處理,請(qǐng)勿用鋼銼去磨;5.不用時(shí)請(qǐng)及時(shí)拔掉插頭。??????????? |
西瑪 膠柄電烙鐵/C0016-220-30 庫(kù)號(hào):RL187844 | 產(chǎn)品描述:西瑪 膠柄電烙鐵/C0016-220-30GS TUV認(rèn)證產(chǎn)品,保證品質(zhì)。兩插插頭,110V與220V兩種選擇。注意事項(xiàng):1.在使用不含松香焊錫時(shí),焊接處要涂上松香劑;2.要等焊錫凝固后方可移動(dòng)焊接處;3.通電后的烙鐵溫度非常高,處理不當(dāng)會(huì)造成燙傷或引起火災(zāi),請(qǐng)小心處理;4.烙鐵頭經(jīng)特殊處理,請(qǐng)勿用鋼銼去磨;5.不用時(shí)請(qǐng)及時(shí)拔掉插頭。 |
西瑪 電烙鐵頭子(彎頭)/C0017B-30-W 庫(kù)號(hào):RL187845 | 產(chǎn)品描述:西瑪 電烙鐵頭子(彎頭)/C0017B-30-WC0017 電烙鐵配件? |
西瑪 吸錫泵/C0014 庫(kù)號(hào):RL187846 | 產(chǎn)品描述:西瑪 吸錫泵/C00141.鋁合金一體成型。吸力強(qiáng)勁,快速有效去除焊錫迅速分離連接件;2.優(yōu)質(zhì)的PTFE三吸嘴,耐高溫,耐溶劑性能優(yōu)良;3.經(jīng)常清潔泵內(nèi),以保證正常使用。 ???? |
西瑪 電烙鐵芯/C0017A-30 庫(kù)號(hào):RL187847 | 產(chǎn)品描述:西瑪 電烙鐵芯/C0017A-30C0017 電烙鐵配件 |
西瑪 吸錫泵/C0014 庫(kù)號(hào):RL187848 | 產(chǎn)品描述:西瑪 吸錫泵/C00141.鋁合金一體成型。吸力強(qiáng)勁,快速有效去除焊錫迅速分離連接件;2.優(yōu)質(zhì)的PTFE三吸嘴,耐高溫,耐溶劑性能優(yōu)良;3.經(jīng)常清潔泵內(nèi),以保證正常使用。 ???? |
西瑪 吸錫泵/C0014 庫(kù)號(hào):RL187849 | 產(chǎn)品描述:西瑪 吸錫泵/C00141.鋁合金一體成型。吸力強(qiáng)勁,快速有效去除焊錫迅速分離連接件;2.優(yōu)質(zhì)的PTFE三吸嘴,耐高溫,耐溶劑性能優(yōu)良;3.經(jīng)常清潔泵內(nèi),以保證正常使用。 ???? |
西瑪 電烙鐵頭子(直頭)/C0017B-30-Z 庫(kù)號(hào):RL187850 | 產(chǎn)品描述:西瑪 電烙鐵頭子(直頭)/C0017B-30-ZC0017 電烙鐵配件 |
鷹牌 膠柄電烙鐵 庫(kù)號(hào):RL187851 | 產(chǎn)品描述:鷹牌 膠柄電烙鐵1.電烙鐵是用來(lái)焊接電器元件的,為方便使用,通常用“焊錫絲”作為焊劑,焊錫絲內(nèi)一般都含有助焊的松香。 焊錫絲使用約60%的錫和40%的鉛合成,熔點(diǎn)較低;2.電烙鐵的選用:電烙鐵的種類及規(guī)格有很多種,而且被焊工件的大小又有所不同,因而合理地選用電烙鐵的功率及種類,對(duì)提高焊接質(zhì)量和效率有直接的關(guān)系;1)焊接集成電路、晶體管及受熱易損元器件時(shí),應(yīng)選用 20W 內(nèi)熱式或 25W 的外熱式電烙鐵;2)焊接導(dǎo)線及同軸電纜時(shí),應(yīng)先用 45W~75W 外熱式電烙鐵,或 50W |
西瑪 膠柄電烙鐵芯子/C0016A-220-30 庫(kù)號(hào):RL187852 | 產(chǎn)品描述:西瑪 膠柄電烙鐵芯子/C0016A-220-30C0016 膠柄電烙鐵配件。? |
世達(dá)工具 外熱式長(zhǎng)壽烙鐵頭(特尖頭)/03241 庫(kù)號(hào):RL187853 | 產(chǎn)品描述:世達(dá)工具 外熱式長(zhǎng)壽烙鐵頭(特尖頭)/032411、世達(dá)長(zhǎng)壽命外熱式烙鐵頭采用高級(jí)優(yōu)質(zhì)銅材經(jīng)精密加工而成。表面特別處理的合金層具有卓越的抗高溫氧化性能及耐磨性能。防腐蝕表面處理確保優(yōu)良的抗腐蝕性。2、烙鐵頭頭部已進(jìn)行上錫處理,使您在焊接作業(yè)中更方便快捷。3、本烙鐵頭適用于世達(dá)外熱式長(zhǎng)壽電烙鐵。 貨號(hào): 5BA1030C 制造商型號(hào): 03241 貨號(hào): 5BA1031C |
世達(dá) 快速升溫雙功率電烙鐵/03263 庫(kù)號(hào):RL187854 | 產(chǎn)品描述:1、傳統(tǒng)電烙鐵只有一種功率,但此款特有兩種功率,只需按鈕,功率既能由20W提升至130W,一支電烙鐵能同時(shí)焊接不同大小元件。2、配用陶瓷發(fā)熱元件,絕熱層手柄不會(huì)燙手,設(shè)計(jì)輕巧,使用時(shí)手感舒適。產(chǎn)品參數(shù):1、電源電壓:220V/50HZ2、絕緣電阻:100兆歐3、電氣強(qiáng)度:3750V 一分鐘不擊穿4、消耗功率:20W/130W注意事項(xiàng):1、請(qǐng)保持烙鐵頭頭部始終掛錫。2、請(qǐng)勿敲打烙鐵頭。3、請(qǐng)勿采用較強(qiáng)酸性助焊劑。4、嚴(yán)禁在電烙鐵通電使用時(shí),拆卸電熱部分零件。5、非專業(yè)維修人員,請(qǐng)勿自行拆 |
產(chǎn)品描述:世達(dá)工具 外熱式長(zhǎng)壽電烙鐵/03210
1、采用高阻抗天然云母發(fā)熱芯,經(jīng)久耐用
2、配合不同焊嘴.適用于微型及大面積電子焊接大熱 容量,快速傳熱.回?zé)嵫杆伲ぷ餍矢?/p>
3、簡(jiǎn)易更換發(fā)熱芯裝置.方便快捷.省時(shí)省力.泄漏 電流低于0.25mA,安全可靠
4、輕便小巧手柄散熱快.長(zhǎng)時(shí)間作業(yè)倍感舒適
5、請(qǐng)選用世達(dá)外熱式長(zhǎng)壽電烙鐵頭及外熱式天然云母 發(fā)熱芯作為配件
產(chǎn)品參數(shù):
1、電源電壓:AC 220V 50HZ
2、發(fā)熱無(wú)件:天然云母發(fā)熱元件
3、絕緣阻抗:大于100MΩ以上
4、泄漏電流:025mA以下
注意事項(xiàng):
1、初次使用時(shí),焊嘴必須先搪錫
2、請(qǐng)使用弱酸性助焊劑
3、焊嘴請(qǐng)勿敲擊或用銼刀打磨
4、焊頭發(fā)黑氧化,應(yīng)用清潔海綿清潔焊嘴。搪錫后使用。
5、通電作業(yè)時(shí),嚴(yán)禁拆卸電熱部分元器件
6、使用時(shí),應(yīng)配備具有自然散熱結(jié)構(gòu)的烙鐵座
7、放置遠(yuǎn)離兒童處作業(yè),以免燙傷
8、焊接敏感元件時(shí),必須將本產(chǎn)品接地
貨號(hào): | 5BA1017C | 制造商型號(hào): | 03210 | |
貨號(hào): | 5BA1018C | 制造商型號(hào): | 03220 | |
貨號(hào): | 5BA1019C | 制造商型號(hào): | 03230 | |
貨號(hào): | 5BA1020C | 制造商型號(hào): | 03240 |
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供應(yīng)真空電子束焊機(jī)真空泵,電子束在配置大路通DLT.V0300真空泵的真空環(huán)境里焊接因具有不用焊條、不易氧化、工藝重復(fù)性好及熱變形量小的優(yōu)點(diǎn)而廣泛應(yīng)用于航空航天、原子能、國(guó)防及軍工、汽車和電氣電工儀表等眾多行業(yè)。電子束焊接要求真空度很高,一般是需要配置多臺(tái)真空泵才能達(dá)到要求,大路通DLT.V0300真空泵是一款結(jié)構(gòu)緊湊,堅(jiān)固耐用,安全環(huán)保的真空泵,轉(zhuǎn)子具有良好的幾何對(duì)稱性,故振動(dòng)小,運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),真空泵高,所以多作為真空電子束焊機(jī)的前級(jí)泵配置。本公司技術(shù)人員集多年的行業(yè)應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),借鑒多款歐美產(chǎn)品的優(yōu)點(diǎn),結(jié)合中國(guó)用戶的使用維護(hù)習(xí)慣而獨(dú)立開發(fā)的產(chǎn)品.選用優(yōu)質(zhì)配套件,采用先進(jìn)的加工裝配工藝,確保產(chǎn)品的高品質(zhì)及可靠性.DLT.V0300真空泵能長(zhǎng)期不間斷運(yùn)行.DLT.V0300真空泵參數(shù)抽氣速率: 300立方米/小時(shí)極限壓力: 0.1mbar電 源:380V 電機(jī)功率: 7.5KW重量: 約210KG可按應(yīng)用要求配置多種附件, 體積緊湊,運(yùn)行寧?kù)o,尤其適合各類機(jī)械設(shè)備配套.產(chǎn)品特點(diǎn):1.設(shè)計(jì)精密.結(jié)構(gòu)堅(jiān)固.重量輕.易于安裝及維護(hù).1.低噪音,低震動(dòng),工作環(huán)境不會(huì)受影響 2.內(nèi)置高效油霧過(guò)濾器,所排出的氣體不含油霧 3.采用風(fēng)冷卻,但較大型的真空泵配有冷卻風(fēng)管,利用風(fēng)扇將風(fēng)管內(nèi)的潤(rùn)滑油冷卻,提高冷卻效果 4.內(nèi)置止回閥及氣鎮(zhèn)閥,可避免停機(jī)后泵逆轉(zhuǎn)而造成油逆流及避免高真空環(huán)境下,空氣所含水氣經(jīng)壓縮凝結(jié)成水點(diǎn),造成潤(rùn)滑油乳化變質(zhì)5.抽風(fēng)量強(qiáng)勁,極限真空可達(dá)到0.1mbar(10Pa)6.運(yùn)轉(zhuǎn)聲音小.大路通真空泵已普遍應(yīng)用于各類儀器真空包裝,橡膠和塑料工業(yè)上的真空吸塑成形,印刷工業(yè)上的紙張輸送,各類鑄件的真空浸漬防漏,機(jī)械加工上的真空夾具,電子半導(dǎo)體工業(yè)上的元器件真空裝夾定位,化工上的真空干燥,過(guò)濾,大型機(jī)械零件在空真狀態(tài)下的動(dòng)平衡試驗(yàn)以及醫(yī)院手術(shù)室的真空吸引等在本型泵所能達(dá)到的真空范圍的各種真空處理。適用機(jī)械:硫化機(jī)/加硫機(jī)/吸塑機(jī)/層壓機(jī)/橡膠硫化機(jī)/精雕機(jī)/自動(dòng)化機(jī)械手/吸附加工/真空貼膜機(jī)/食品包裝機(jī)/線路板/薄膜開關(guān)/模具抽真空/真空機(jī)床吸盤/雕銑機(jī)/高光機(jī)/CD紋機(jī)/數(shù)控批花機(jī)/含浸機(jī)/浸漆機(jī)/破波機(jī)/脫泡機(jī)/灌膠機(jī)/點(diǎn)膠機(jī)/注型機(jī)/電子束焊機(jī)
技術(shù)參數(shù)
1.電子束源&電源 •單個(gè)或者可自由切換換電子束源: --蒸發(fā)室數(shù)量 1 ~ 12(標(biāo)配: 4, 6) --坩堝容量:7 ~ 40 cc (最大可達(dá)200 cc) ----標(biāo)準(zhǔn):25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket) ----最大:200 cc (156cc for UHV) 可用于長(zhǎng)時(shí)間的沉積 •偏轉(zhuǎn)角度:180º, 270º •輸出功率:6, 10, 15, 20 kW •支持兩個(gè)或者三個(gè)電子束源在一個(gè)系統(tǒng)上 •可連續(xù)或者同時(shí)沉積兩種或三種材料 •高速率沉積 2.薄膜沉積控制: •IC-5 ( or XTC, XTM) 和計(jì)算機(jī)控制 --沉積過(guò)程參數(shù)可控 --石英晶體振蕩傳感器 --光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)用于光學(xué)多層薄膜沉積:測(cè)量波長(zhǎng)范圍350-2000 nm,分辨率1 nm •薄膜厚度檢測(cè)和處理過(guò)程可通過(guò)計(jì)算機(jī)程序控制 •薄膜厚度檢測(cè)和沉積速率可通過(guò)計(jì)算機(jī)程序控制 --支持大面積沉積 --支持在線電子束蒸發(fā)沉積 --基底尺寸:20~100英寸 --薄膜均勻性 <±1.0 to 5.0 % 3.真空腔體: •圓柱形腔體 --直徑:φ500 ~ 1,500 mm --高度:800 ~ 1500 mm •方形腔體 --根據(jù)客戶的需求定制 4.真空泵和測(cè)量裝置: •低真空:干泵和convectron真空規(guī) •高真空:渦輪分子泵,低溫泵和離子規(guī) •超高真空:雙級(jí)渦輪分子泵,離子泵和離子規(guī) 5.控制系統(tǒng)PLC和 觸摸屏計(jì)算機(jī): •硬件: PLC, 觸摸屏計(jì)算機(jī) --包括模擬和數(shù)字輸入/輸出卡 --顯示器: LCD •自動(dòng)和手動(dòng)程序控制 --程序控制:加載,編輯和保存 --程序激活控制: ----泵抽真空,蒸發(fā)沉積,加熱, 旋轉(zhuǎn)等 ----膜厚度檢測(cè)和控制多層薄膜沉積 ----系統(tǒng)狀態(tài),數(shù)據(jù)加載等 ----問(wèn)題解答和聯(lián)動(dòng)狀態(tài)
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主要特點(diǎn)
擴(kuò)展功能: •質(zhì)量流量控制器:反應(yīng)和等離子體輔助惰性氣體控制 •離子源和控制器:等離子體輔助沉積 •射頻電源:基底預(yù)先處理 •溫度控制器:基底加熱 •熱蒸發(fā)器:1 or 2 boat •蒸鍍?cè)碿ell:1 or 2 for doping •冷卻器:系統(tǒng)冷卻
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全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備制造商,為各個(gè)領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案:電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、離子泵等; 電子束蒸發(fā)系統(tǒng): 1.膜電子束蒸發(fā)系統(tǒng)E -Beam Evaporation System 2.高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)High Vacuum E -Beam Evaporation System 3.超高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System 4.離子輔助蒸發(fā)系統(tǒng)Ion Beam Assisted Evaporation System 5.離子電鍍系統(tǒng)Ion Plating System 6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System 7.在線電子束蒸發(fā)系統(tǒng)In-line E -Beam Evaporation System |
型號(hào):JX163574高精度鍍膜儀208HR | 型號(hào):JX163578電子束蒸發(fā)鍍膜EBES | 型號(hào):JX163565電鏡專用高真空鍍膜儀208HR |
208HR高分辨離子濺射儀為場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí),樣品需鍍上極其薄、無(wú)細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累,并提高低密度材料的對(duì)比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到小程度,208HR提供了一系列的鍍膜材料,并對(duì)膜厚和濺射條件提供無(wú)可媲美的控制。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力,可以對(duì)膜層的均勻性和一致性進(jìn)行控制,并減小充電效應(yīng)。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm,其作用是對(duì)所鍍薄膜的厚度進(jìn)行控制,它尤其適合場(chǎng)發(fā)射電鏡對(duì)膜厚(0.5-3nm)的要求。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是:
Pt/Pd:非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
Cr:優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料
Ir:優(yōu)良的真正無(wú)細(xì)晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇,可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無(wú)油渦旋式真空泵,標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
一、主要特性
· 可選擇多種鍍膜材料
· 的膜厚控制
· 樣品臺(tái)控制靈活:可對(duì)樣品臺(tái)進(jìn)行獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)、傾斜控制,保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果。
· 多個(gè)樣品座:提供4個(gè)樣品座,每個(gè)樣品座直徑32mm,可裝載多達(dá)6個(gè)小樣品座。
· 樣品室?guī)缀慰勺儯?/span> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率(1.0nm/s ~ 0.002nm/s)
· 寬范圍的操作壓力:獨(dú)立的功率和壓力調(diào)節(jié),氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。
· 緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)
· 操作容易
矽碁電子束蒸發(fā)系統(tǒng)簡(jiǎn)介
矽碁電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是專為實(shí)驗(yàn)室科學(xué)研究開發(fā)設(shè)計(jì),系統(tǒng)靈活,高度可定制化,可實(shí)現(xiàn)共蒸鍍等功能。
系統(tǒng)基本規(guī)格
腔體真空度可達(dá)<10-7Torr
基板旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)
全自動(dòng)鍍膜,工業(yè)級(jí)操作軟件
可實(shí)現(xiàn)共蒸鍍制程
電腦即時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)運(yùn)作狀況(真空度,基板溫度,鍍率,膜厚...)
可選項(xiàng)
可選用turbo/cryo/diffusion泵浦
坩堝選擇(1//2/4/6)
傳送機(jī)構(gòu)(Load-Lock System)
手套箱連接
鍍膜基板冷卻
鍍膜基板加熱(800℃)
可結(jié)合其他制程設(shè)備以達(dá)到雙腔、Cluster(枚葉式)或In-line(連續(xù)式)制程需求
應(yīng)用范圍
LIFT-OFF制程應(yīng)用
光電組件(發(fā)光/鐳射二極管)
通訊組件
半導(dǎo)體組件
分子泵超高分辨鍍膜,放大倍率可到30-60萬(wàn)倍也不會(huì)看到鍍膜顆粒,適用于現(xiàn)階段超高分辨場(chǎng)發(fā)射或雙束電鏡使用如FEI Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; 7600F 7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga;
專利磁控冷態(tài)噴鍍
專利冷態(tài)鍍膜設(shè)計(jì)使用真正的“平衡磁控管”沒(méi)有等離子體電流在樣品,在得到高分辨非晶鍍膜層同時(shí)避免樣品受到熱損傷,對(duì)熱損傷或輻照損傷敏感樣品尤為適合
廣泛的鍍層靶材選擇
特殊雙極磁控管頭設(shè)計(jì)和有效的氣體離子處理使得208HR擁有廣泛多種鍍層靶材選擇
全自動(dòng)化設(shè)計(jì)
自動(dòng)的換氣與泄氣功能,濺射電流和電壓通過(guò)磁控頭的傳感線監(jiān)控,蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制保證了均勻一致的膜厚,和的導(dǎo)電噴鍍效果。
超高精度膜厚監(jiān)控設(shè)計(jì)
使用可選MTM-20全自動(dòng)高分辨膜厚監(jiān)控儀可優(yōu)化設(shè)計(jì)鍍膜條件達(dá)到0.1nm膜厚可控效果
多用途樣品托設(shè)計(jì)
獨(dú)立的旋轉(zhuǎn),水平和傾斜 3軸移動(dòng)設(shè)計(jì)優(yōu)化了多樣品以及不規(guī)則樣品的均勻一直鍍膜
?可變的樣品室?guī)缀卧O(shè)計(jì)
為了優(yōu)化鍍層結(jié)構(gòu)樣品室?guī)缀卧O(shè)計(jì)可用于調(diào)整噴鍍速度從1.0納米每秒到0.002納米每秒
廣泛的操作氣體壓力
獨(dú)立的電壓,電流以及壓力回路控制系統(tǒng)允許可操作氬氣壓力從0.2-0.005mbar真空度
緊湊型時(shí)尚桌面式設(shè)計(jì)
節(jié)能,緊湊設(shè)計(jì)消除了對(duì)于樓層空間要求,水要求和專業(yè)電氣連接要求
鍍膜不同多樣樣品
超高分辨208HR鍍膜系統(tǒng)現(xiàn)在針對(duì)噴鍍不同電鏡樣品提供了理想的解決方案。為了減小噴鍍晶粒尺寸影響,208HR提供一套全系列的鍍膜靶材材料和前所未有的膜厚鍍層控制條件。為了更小優(yōu)化充電效果,208HR的特殊樣品臺(tái)設(shè)計(jì)和大范圍的操作壓力提供了高精度的鍍膜一致性和統(tǒng)一性。 高低樣品室的配置也提供了更為方便的工作距離調(diào)整。
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