GCMS-QP2010(S) 標準離子源元件

gcms-qp2010(s) 標準離子源元件描述如下：

價格：電議 型號：225-10434-92,225-01068 所在地：北京北京市

GCMS-QP2010 離子源單元（CI/NCI）

gcms-qp2010 離子源單元（ci/nci）描述如下：

價格：電議 型號：225-10617-91,034-01602-31 所在地：北京北京市

GCMS-QP5050 離子源標準配件（GCMS）

gcms-qp5050 離子源標準配件（gcms）描述如下：

價格：電議 型號：225-01054,225-02446-91 所在地：北京北京市

上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000

上海伯東代理美國原裝進口 kri 霍爾離子源 eh 3000 適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對比, eh 3000 是目市場上高效, 提供更高離子束流的離子源.

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上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 1000

上海伯東代理美國原裝進口 kri 霍爾離子源 eh 1000, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.

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上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼型離子源 RFICP 100

上海伯東代理美國原裝進口 kri 考夫曼型離子源 rficp 100 緊湊設計, 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設計但是可以輸出 >400 ma 離子流. 考夫曼型離子源 rficp 100 源直

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上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 2000

上海伯東代理美國原裝進口 kri 霍爾離子源 eh 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eh 1000 所有的性能, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統(tǒng). 通常應用

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上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 400

上海伯東代理美國原裝進口 kri 霍爾離子源 eh 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eh 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助

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上海伯東代理美國原裝進口 KRI考夫曼離子源 KDC 40

上海伯東代理美國原裝進口 kri 考夫曼離子源 kdc 40: 小型低成本直流柵離子源. kdc 40 是 3cm 考夫曼型離子源升款. 具有更大的柵, 更堅固, 可以配置自對準第三層柵. 離子源 k

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上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10

上海伯東代理美國原裝進口 kri 考夫曼離子源 kdc 10: 考夫曼型離子源 gridded 系列小型號的離子源. 適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在 <100

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上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 75

上海伯東代理美國原裝進口 kri 考夫曼離子源 kdc 75:緊湊柵離子源,離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“cf法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 kdc 75 包含2個陰燈絲, 其中一

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上海伯東代理美國原裝進口 KRI 射頻離子源 RFICP 140

上海伯東代理美國原裝進口 kri 射頻離子源 rficp 140 是一款緊湊的有柵離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 rficp 140

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